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发表于 2007-1-13 13:22:26
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来自: 中国河北唐山
电化学抛光前是否应有机械抛光?电化学抛光的效果与处理前的状态有关。+ o5 d6 u# s3 y( P
另外,我想知道机加后深冷的目的,谢谢! n3 H7 q3 ~6 G
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) ~- o8 V, b! u+ U0 d一、 金属电化学抛光的历史
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金属电化学抛光技术早在1911年由俄国化学家许宾塔斯基发明,但在其后的几十年中并没有得到多大的发展。直到1936年法国学者捷润特进行了深入的研究,最早用于制金相样品,其理论和实践才得以初步建立。
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二、 金属化学与电化学抛光的特点2 T- h' x4 V+ E, @
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% j8 f- L2 r$ Z) e: |& i% u+ E它去除了机械抛光过程中产生的拜尔培层,在表面上生成了具有高耐蚀性和反光率的金属氧化物层,同时也降低了表面应力的磨擦系数,具有更好的耐蚀性和光亮度。生产过程中表面不产生渗氢现象。对于开关复杂或体积较小的零部件也可进行抛光处理。不锈钢的抛光工艺过程包括表面化学预处理、机械抛光化学抛光或电化学抛光,最后钝化。抛光的效果取决于表面的原始粗糙度,机械抛光后 ' l0 u( W" z5 m- h6 G& ?$ [
,表面光洁度超高,化学抛光或电化学抛光后的光洁度也超高,光亮度也越亮。8 S, E0 Q" }2 [# T; Q: L1 v
$ f3 Q" I3 S* i( k* v三、 抛光对不锈钢的组织和性能的影响。* U( a9 U0 @$ L/ r
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表层微观形貌:1 @ k4 m" L) w" k
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1.
% `6 V) s1 z$ m' U; z( h4 W# ~机械抛光的影响。对奥氏体镍铬不锈钢,如1Cr18ni95Ti的机械抛光,仅靠磨料在很大的定向压力作用下整平表面,因此,表面存在一定的塑性变形组织特征——纤维组织,即拜尔培层。5 _. E0 K! |8 ~; V) j) g8 }
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/ g6 l# S5 O, B6 P电化学抛光的影响。马胜利等研究了1Cr18ni95Ti不锈钢在磷酸/硫酸体系电解液中电化学抛光后表层组织由典型的纤维状组织转变为均匀致密的颗粒状晶粒组织形貌。这显然与抛光过程机理有关。! b8 }3 V, o% L$ j( M, E
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* A# I5 W1 l5 W通常当电流通过电解液时,不锈钢在阳极上,金属表面微观突凸发生着优先溶解现象,且晶粒中不同晶面微观溶解速度也不相同,从而导致晶粒边缘的出现。但在不同电化学抛光条件下表面的显微组织形貌有很大差异。如在65%(
+ d' p. S8 w6 s& }- z& awt)水的电解液中,当阳极电流密度为30A/dm2、t为70℃下抛光15min时,可获得较好的表面抛光效果。当阳极电流密度(DA)过底(DA<20A/dm2=或过大(DA<40A/dm2 7 B H7 g$ V1 t0 R
),或温度过高( >90℃)或过低 (<50℃=),或抛光时间过长(>25min)或过短(<10min),均不利于表面抛光质量的提高。 h4 ?7 Z' f% I0 ?
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四、 表面粗糙和光亮度3 W, X0 O- c j9 _
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1.
v% n' p! _6 {6 Q机械抛光表面粗糙度和光亮度。机械抛光表面粗糙度测量值Ra=0.51um,而光亮度仅为10%,对此实验结果可能的解释是机械抛光表面上会出现很多不规则的晶面,向各个方向均有反向光线。
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( G6 K! e- @2 N( Z$ a) g, D. \电化学抛光表面粗糙度和光亮度。表面固定硫酸与水比值2.5,DA=30A/dm2,T=70℃,t=15min情况下,研究磷酸会计师对抛光效果的影响。磷酸含量为65%(wt)时,粗糙度(Ra)值最小,既达到整平表面,又要增加光亮度,选择最佳的电流密度(DA)、电解液温度T和抛光时间t,使电解抛光处于阳极腐蚀和阳极氧化的中间状态。
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+ o) q& w* x+ r: { F工艺操作参量对抛光效果的影响均显示为抛物线极值关系。只使金属阳极牌腐蚀状态,虽可整平表面,但金属无光泽,相反会导致阳极钝化膜的溶解加速,阳极氧化程度的增加,严重时出现过腐蚀。
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五、 常规机械抛光7 r7 \$ R8 `/ @% I
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8 B) b0 V2 T) t! I, i8 s常规机械抛光是不锈钢抛光的三种抛光(即机械抛光,化学抛光和电化学抛光)的第一道工序。有时两者相结合,如机械抛光----化学抛光或机械抛光---电化学抛光。机械抛光用于初级抛光,将表面的凹凸不平度加工到一定的粗糙度,然后再进行化学抛光或电化学抛光。化学抛光和电化学抛光可以除云表面微观不平度,从而提高到镜面光亮。对于毛坯表面由于存在宏观不平度,要选用机械方法达到Ra≦0.8微米的粗糙度,再用化学抛光或电化学抛光方法提升到Ra≦0.5微米心上的粗糙度,才能获取最后的光亮度—镜面光泽。只有轧制的光洁度较高的板材制件或机械精加工制件,才可不经机械抛光而直接进行化学或电化学抛光。 |
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