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发表于 2008-1-5 23:49:56
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来自： 中国福建泉州
有一本这样的书：等离子体放电原理与材料处理
) Z" s5 E# F+ _+ I* p8 C% r3 g* j4 L' C+ i" v
内容简介
& G* o- N. z0 X& W9 e 本书全面深入地介绍等离子体物理和化学的基本原理，以及工业等离子体材料处理的原理，并应用基本理论分析各种常见等离子体源的放电状态。书中还介绍半导体材料的刻蚀、薄膜沉积，离子注入等低温等离子体在材料处理方面的应用，反映本领域的最新研究进展。全书共18章，内容包括等离子体的基础知识、等离子体放电过程中的粒子平衡和能量平衡、容性和感性放电、波加热的气体放电、直流放电、刻蚀、沉积与注入、尘埃等离子体，以及气体放电的动理论等。
( m/ W% `. l* ]. k3 Q$ e" u9 v" G 本书可供等离子体物理领域的研究生、技术人员，以及微纳电子领域的科技研发人员参考学习。
% @, g( F4 b( A3 F" s- C& ^+ l( `6 r3 K7 e
本书目录3 F) g# U# v( u. P# O
第1章 概 述
6 E6 K r T5 ^3 t1.1 材料处理 6 R1 V: R. }' J2 t8 u- @+ `0 T" r8 `) v/ }
1.2 等离子体和鞘层 - ]' t, G$ L q9 Z5 g% i9 C
1.3 放 电
( Q; m" a" I! o1.4 符号和单位- k" Y& k5 @. }+ f. C. l, {3 V
第2章 等离子体的基本方程和平衡态性质 ) } G% K0 m! D4 N
2.1 引 言
. x2 d2 j5 ]# C+ E; T7 N5 S2.2 场方程、电流和电压
2 F& f; h" P% Q$ S/ \: {4 J5 ~2.3 守恒方程( H, f9 P' C7 e& Q7 [6 h
2.4 平衡态性质 5 s0 {% b7 |/ m3 a! k3 V7 a
习 题 * r0 u* i& M: K( A0 }
第3章 原子碰撞 ; t" I9 }! G! E0 H$ _
3.1 基本概念* B p1 U7 k# L. m# o9 N; d
3.2 碰撞动力学 7 o& H' S2 A2 D" k
3.3 弹性散射 ' W* f" K0 x) \6 L J9 m
3.4 非弹性碰撞 5 K$ s( R2 X: [9 ~( V8 w2 H
3.5 求分布函数下的平均值和表面效应 & L! K% W& V- t# \; e
习 题 * U' w6 ^/ T7 k0 J4 n/ D( R7 }8 g2 ~
第4章 等离子体动力学
* O4 F7 s% k4 f, J' u4.1 基本运动
# i" |. o" z/ C3 f) [5 b2 M6 W7 ?' M4.2 非磁化等离子体动力学) I; p; N9 N7 g3 H5 L6 X6 I! u
4.3 导向中心运动
. a/ W2 D0 Y, B; P4.4 磁化等离子体动力学
. ~. s5 A3 r! t" w3 T, R. L" c m8 J4.5 磁化等离子体中的波
# o4 K+ Q, a8 `7 S9 b" \5 J; i4.6 波诊断2 u$ i) Y2 j6 @4 Q0 B9 o) n5 \
习 题 ( ^7 b( F3 l4 l3 C! k, m
第5章 扩散和输运 , R2 Y5 ?: ]* e4 [3 X. t* v. P. [
5.1 基本关系式
, w: p& u" ^3 s# o. P( B5.2 扩散方程的解
# }8 G- b: |+ s o5.3 低气压解
9 f) h+ ^1 v0 r2 W, R- p+ O; J8 s5.4 在磁场中的扩散过程, X6 a5 I* \; r: t9 E. ] b' r/ S
5.5 磁多极约束+ {- @" _2 Z0 ~5 g7 z5 r! h
习 题 ; u5 x( J) ]9 D: ]
第6章 直流鞘层 x' G% M# i1 R, r) [+ r, l: O4 f" X
6.1 基本概念和方程 3 H6 p7 Z; ?" Z$ ~
6.2 玻姆鞘层判据 + S9 d. m% v3 [% G) Y% m; Z' J
6.3 高电压鞘层
1 b7 h! R' C% [6.4 鞘层形成的广义判据
c! y }) a2 i6.5 高电压碰撞鞘层
+ @2 }- W. |' U6.6 静电探针诊断# a* c7 ~! h% t9 @( f9 J5 T1 Y+ C
习 题
4 b& V" R b* M/ t第7章 化学反应和平衡
; B1 H- G. T& P V. u3 j4 x% h r7.1 引 言
2 `: L- T0 R5 E. D5 I4 t7 ^" ~7.2 能量和焓
! z7 w3 l @' _* q$ A9 R7.3 熵和吉布斯自由能5 `( v9 \! z# D8 ?8 f# M* e0 t
7.4 化学平衡 6 M- H4 |2 \3 N6 `/ I+ b! j/ _
7.5 异相平衡 & u& H$ _( d3 ?4 N6 I* ?( g& X
习 题
' W( g4 I. N+ e- X0 z; j! y第8章 分子碰撞 6 H( b6 M$ {# D6 V& V
8.1 引 言 5 w7 D- Y% L# F5 k3 H% K$ [
8.2 分子结构
- e- U p; ^! H1 P `6 e8.3 电子-分子碰撞反应
5 ~/ @2 J1 W: d4 A, o8.4 重粒子间的碰撞
/ }) S& k% k0 b! P8.5 反应速率和细致平衡
( j7 v, ]+ A3 F; [0 }8.6 发射光谱法和光化线强度测定
: {3 D+ K- g( N! h9 r: S5 t习 题
W- j/ ~, ^" A+ q" I: o" C第9章 化学动力学与表面过程
% L6 _* A& |0 P) r6 r% H+ L- ~& `9.1 基元反应 3 \# w& S/ e: e, W7 f* }
9.2 气相动力学
7 }, x" F9 C8 }. k6 _8 z9.3 表面过程
" Y" x3 j9 C$ l" O; @3 `* h9.4 表面动力学 1 q- K5 Q/ ]- C4 j. s' [% N6 ~7 X
习 题
4 D* d7 j4 Z0 C& D3 o, t- g第10章 放电过程中的粒子平衡和能量平衡 + x5 N* ?. u) G. G( {: v* L
10.1 引 言5 K* Q+ q7 s- d X- K' x
10.2 电正性等离子体平衡态分析 . e7 F5 [; L5 t. }* Y' Z3 _2 K
10.3 电负性等离子体平衡态分析
6 S9 V( r2 f" P% o10.4 电负性等离子体的近似平衡分析 4 |7 F% K! D i& }8 Q1 }" f0 U
10.5 电负性等离子体放电实验和数值模拟 ; O4 ~+ P: o/ g$ Z6 n
10.6 脉冲放电
" a# r& E) o/ _/ i2 R4 J; O4 d习 题 , `% @7 D3 d1 Z& _
第11章 容性放电
! L2 ?2 v% X) O11.1 均匀放电模型' t$ d! ]# g2 b3 V2 l9 z3 f
11.2 非均匀放电模型
6 k6 d. o' k F5 _11.3 实验与数值模拟( w, j7 ~( d7 N, @, w/ G/ M
11.4 非对称放电
8 [- B8 j. ]5 i, n% d% ]/ t1 c11.5 低频时的射频鞘层
3 }5 Y; P: X9 F# J$ Z( ~: I- o11.6 电极处的离子轰击能量
9 ~+ \/ V6 t% E# a+ w11.7 磁增强的气体放电) \& J( ?' z' w. Y3 I T/ N! h, g
11.8 匹配网络和功率测量
' D/ f8 S4 h2 F8 c' S r9 E习 题
: a9 J/ B8 f8 j, w第12章 感性放电
( N. K* w" x2 n2 |12.1 高密度、低气压等离子体
& s) D6 O6 J% h# b4 `$ c! g12.2 其他工作状态
, d. F; o6 ^& \4 F! N" h12.3 盘香形线圈等离子体源
8 s& H5 G1 F/ c: \) c( Z12.4 螺旋共振器放电 % A( l& z4 p$ c' Q
习 题 & p% P6 ^% h2 u) Y
第13章 波加热的气体放电
( s' p' R+ ~/ [" ~3 z* K13.1 电子回旋共振等离子体
2 P% M( D+ }, \1 @13.2 螺旋波放电 S7 k v2 F E% l2 i' O
13.3 表面波放电 7 m! |' b# b# D' x& L/ B% V* ~) h
习 题
$ ?7 E" n Y* r$ D' r$ A D第14章 直流放电 4 R, c( B+ v" b+ W1 H- D: Y0 O& C7 E$ }
14.1 辉光放电的定性描述 7 |( Y8 D$ d+ y" U- {. @5 T
14.2 正柱区分析
1 ~$ {: r: j% B l14.3 阴极鞘层分析
# s# i( ?4 F7 G; a6 I6 r14.4 中空阴极管放电
c! `7 ^: H! x8 c$ y3 {14.5 平面磁控放电
2 f% R9 p7 L$ l0 } E$ G14.6 电离物理气相沉积" A2 z9 f0 b( s5 i
习 题 6 ?; f6 @$ I3 [7 E6 J+ v
第15章 刻 蚀
% D6 W E' ?# U0 H$ k9 e15.1 刻蚀的要求和工艺过程) n( ^& ^4 \9 g- T
15.2 刻蚀反应动力学
- e. L# T: q; T9 v15.3 用卤素原子刻蚀硅) L: \; }- g$ h5 l
15.4 其他刻蚀系统 - z" k+ B2 |* A% f9 q2 n
15.5 衬底上的电荷积累
" G& E& r" a2 t4 `' }$ z& L) X' r习 题 + a) a6 d6 [* v% r; b8 a7 l8 w
第16章 沉积与注入
5 N( I; N& P( G: ?16.1 引 言 ; }: {3 z* W# r. p. v( V" o
16.2 等离子体增强化学气相沉积
$ P3 W/ j5 Q7 e9 j& Q% D16.3 溅射沉积
' i' q% ]" ?3 Z1 o16.4 等离子体浸没离子注入(PIII)
- j# z) z! X5 v习 题
1 n* ?5 O. a( V3 \第17章 尘埃等离子体 1 w& B1 _- u: D% l2 _; Y x! O* d
17.1 物理现象的定性描述7 p% {* W0 V' m; Q8 A$ B
17.2 颗粒充电和放电平衡
# D; L1 {8 d/ o+ Y/ n0 E) D+ V17.3 颗粒平衡
) K. e& o9 w. Z0 z& D17.4 尘埃颗粒的形成和生长
& v$ b- i" h0 y% w& A! l) q7 e17.5 物理现象及其诊断9 o t/ { ]4 W4 A- j8 }% \) \
17.6 颗粒的清除或产生
: B9 p K, b0 ?6 f0 B( s" G6 Y习 题 1 |" J6 ^$ K6 r2 D
第18章 气体放电的动理论
$ A" {4 b/ }2 g* F18.1 基本概念
% {) V$ b5 U7 _8 w" @2 [: a* H18.2 局域动理论
* W% h# \4 b n8 y/ H18.3 非局域动理论
4 |0 {# z7 B% U+ P2 z. \18.4 准线性扩散和随机加热
3 I+ P+ c# O+ G! |+ B9 B; p18.5 在趋肤层中的能量扩散4 P6 `' q0 e& O4 V
18.6 放电的动理论模型 3 P: Z9 A* Q8 @& ]9 x4 l
习 题
3 B6 p$ D- p3 Y- O- ~$ S* ~0 G- c# i附录A碰撞动力学
* D. X Z! M2 c! D6 j1 k5 [6 E$ yA.1 库仑碰撞截面2 t; }( M7 }) D2 I) s" y
附录B碰撞积分
2 H' W5 n7 H) ^, iB.1 玻尔兹曼碰撞积分$ Z- A* \4 { t) _3 V# a0 ^
B.2 平衡态下的麦克斯韦分布 3 t- {8 a8 A8 m9 i/ _
附录C变迁移率模型中的扩散方程的解) S. t& Z. A0 W5 L: X
参考文献 |
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