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第一版在
# S; B, x- C" C' u4 ehttp://www.3dportal.cn/discuz/viewthread.php?tid=146722&highlight=%B1%A1%C4%A4%B2%C4%C1%CF%D3%EB%B1%A1%C4%A4%BC%BC%CA%F5$ Z+ { L) @8 G3 w' | z
基本信息·出版社：化学工业出版社
3 e' v4 w/ S- D5 S·页码：249 页 A7 R( ^8 \' I0 R) J' D
·出版日期：2008年0 H+ a/ |0 k, K( R; Q& \
·ISBN：7122013146$ i% u1 T7 ~' c" ~. b
! ^/ S, i/ W. n) @9 P: R·条形码：9787122013149
' |6 Y- b7 [0 y3 b3 H·版本：2008年1月第2版
5 W8 Q' B- ^7 h! \: Z·装帧：平装3 b2 o m7 h% x d z. Z4 e: l. E
·开本：16开
$ d6 d& I; ?- X目录* y4 D) n: n: [5 r _9 ~/ C
第一章 真空技术基础
6 ^# D Q( R% b8 s第一节 真空的基本知识' J8 \* ]4 g1 o" O/ p! z
一、真空度的单位
: \2 o) |/ h+ l二、真空区域的划分5 j' v/ D1 p1 n6 O+ `7 {9 n1 O% ?
三、固体对气体的吸附及气体的脱附
. p1 |0 {; {: Y第二节 真空的获得+ W. ^) U7 Y S9 Y
一、旋片式机械真空泵
3 N% r8 R$ f* D& K% B4 E2 B二、复合分子泵& h2 h% I4 R' ^: p8 v
三、低温泵7 q- n- D2 p! {- z# u5 {1 J2 P, Y
第三节 真空的测量5 G5 V& D) o! k' U. p+ R
一、电阻真空计
: a0 ^" x% O9 |" X: R4 {1 H, S- j二、热偶真空计3 x3 G. G' F P3 g8 p
三、电离真空计. O7 ? @# `7 V" e4 l& z8 T
参考文献
4 _# W" h7 C4 D( }+ ?! s第二章 薄膜制备的化学方法
# s7 o. }7 x% ^7 S5 O第一节 热生长
6 D. I$ w4 V: [! m$ k/ I第二节 化学气相沉积
3 [* r0 _; k; S一、一般的化学气相沉积反应, X; H$ x4 c& D% @
二、化学气相沉积制备薄膜的传统方法
: g; d; `2 C1 Z- k* Z$ E& P+ H7 I三、激光化学气相沉积
) U. m* R$ g' R: T$ q四、光化学气相沉积
9 q& N" F% v: K6 V8 Y. w五、等离子体增强化学气相沉积
7 G8 n) Z& T7 M# @第三节 电镀
# i8 R& E& Y; g* e9 ]7 t- y第四节 化学镀
# n5 j) U3 V! [! S8 z b% o6 V- N5 p第五节 阳极反应沉积法
* @+ y8 d$ U+ v% X第六节 LB技术
" \) }7 P7 M! N( h! w: }参考文献% p/ C+ _9 [: H
第三章 薄膜制备的物理方法
: \9 A; y- S3 |" _第一节 真空蒸发
( L, ]9 B: O' V7 ^ D一、真空蒸发沉积的物理原理
4 D' N1 x0 w1 ~' V3 T+ a二、真空蒸发技术$ P" ~" \( E. ?4 u
第二节 溅射
H$ s( c8 ?" n, J% V一、溅射的基本原理
2 Q0 l; v* R' |% a6 j( M二、溅射镀膜的特点
/ N4 S# D+ Z" p/ W: R3 e, z三、溅射参数
8 K1 J; p3 g$ ]3 P; A8 V% ~四、溅射装置
4 _# g8 \7 Q% V k* T第三节 离子束和离子助
7 E, r! \$ H: J8 N( M _0 {7 ~% o一、离子镀
$ f& r" n3 j, h$ h; v' W二、阴极电弧等离子体沉积
8 b7 m8 |6 m r( C& M- f三、热空阴极枪蒸发
4 k7 s8 ~6 a- t: a2 @四、共离子轰击沉积" s5 a0 F2 j0 \! q( D A* @9 P' B8 y
五、非平衡磁控离子助沉积
9 D- g5 w! t8 T d! P) N, Y5 B六、离子束沉积$ q1 V9 d( K, F$ ]5 k
第四节 外延膜沉积技术
+ |1 W& `! h. J: E一、分子束外延（MBE)
. y, T! v1 K {0 m/ p6 X A1 X( w% {二、液相外延生长（LPE)4 r( O( s$ }3 l+ b
三、热壁外延生长（HWE). T: c5 W, x$ {/ x0 P$ Q4 ]
四、有机金属化学气相沉积（MOCVD): q4 h2 D6 z+ k0 l4 r2 I$ @$ a
参考文献* i: q: y- ~! W e* B0 v
第四章 薄膜的形成与生长
/ ^8 {, K' |3 {) t& {……% E- _" B8 u# {& c8 R, T5 k
第五章 薄膜表征
. p+ Q0 G/ d6 p) Q7 z6 _2 a第六章 薄膜材料
8 Z0 A- g0 o* r: q9 I
) K1 }; b" B- f: W5 h, k, r
' P. ~0 E, n' {3 Q2 l7 D) t; I
0 B: |- O. S3 ?3 z# d( P x* E! h% Y J" Q" L. n! B
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; [8 O. P" V$ B2 d1 {内容简介本书系统阐述了薄膜材料与薄膜技术的基本原理和基本知识，重点介绍了薄膜材料的真空制备技术、薄膜的化学制备和物理气相沉积方法、薄膜的形成和生长原理、薄膜的表征，对目前广泛研究和应用的几种主要薄膜材料进行了介绍、评述和展望。2 j0 n8 e7 h! ?% c( r5 k3 X% M
本书技术先进，内容实用，适合于从事材料研究的科研、技术人员阅读参考，同时也可作为高校材料专业教材使用。$ a4 M7 T6 p. ?; ~, X, a) c+ O3 x1 y
Q( }1 X0 G' a[ 本帖最后由 mideas 于 2008-12-21 13:49 编辑 ] |
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发表于 2008-12-21 13:42:04
