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电镀定义:电镀为电解镀金属法的简称。电镀是将镀件(制品),浸于含有欲镀上金属离子的药水中并接通阴极,药水的另一端放置适当阳极(可溶性或不可溶性),通以直流电后,镀件的表面即析出一层金属薄膜的方法。" d# G5 h; H, w i
电镀的基本五要素:
. U' T( N. z2 c, T' A( e1.阴极:被镀物,指各种接插件端子。
! L: V4 Q- n0 J& T. J2.阳极:若是可溶性阳极,则为欲镀金属。若是不可溶性阳极,大部分为贵金属(白金,氧化铱)." x+ P3 Y: @% }6 S8 j, K& A" v0 Y/ R
3.电镀药水:含有欲镀金属离子的电镀药水。2 L1 k& I5 m5 H0 d; B# C6 m ]
4.电镀槽:可承受,储存电镀药水的槽体,一般考虑强度,耐蚀,耐温等因素。# C9 ~7 R% r g( `, g8 \2 _2 Z2 U
5.整流器:提供直流电源的设备。
1 W+ x! ]1 S! p7 o* `4 [ 电镀目的:电镀除了要求美观外,依各种电镀需求而有不同的目的。
1 B% d4 i; x0 I/ t2 A1.镀铜:打底用,增进电镀层附着能力,及抗蚀能力。
5 {* V) s# r3 A9 s2 x `" j s' l* R2.镀镍:打底用,增进抗蚀能力。; B0 E G) V& d* ?* l# n+ u; Z# a
3.镀金:改善导电接触阻抗,增进信号传输。
( F( O/ A1 V7 Y. u0 x* u4.镀钯镍:改善导电接触阻抗,增进信号传输,耐磨性比金佳。
# ^. x" E0 p6 N5.镀锡铅:增进焊接能力,快被其他替物取代。
" M9 |2 g9 k' ?- G7 j- R% i 电镀流程:一般铜合金底材如下(未含水洗工程)
* F& \2 Z* G. A( b% n9 z1 H1.脱脂:通常同时使用碱性预备脱脂及电解脱脂。
9 }# A; i0 F5 T. Q- r/ ^2 p6 ^2.活化:使用稀硫酸或相关的混合酸。. }: f% u& E+ F2 f! f
3.镀镍:使用硫酸镍系及氨基磺酸镍系。
, K" H& b7 A* `6 W- ^$ A9 A6 N4 H4.镀钯镍:目前皆为氨系。6 `$ a5 e6 m; p/ M
5.镀金:有金钴,金镍,金铁,一般使用金钴系最多。
/ Z3 |2 c$ d2 ^. y6.镀锡铅:烷基磺酸系。
& e" U5 n7 S( {4 m& R; J# ?6 B$ C7.干燥:使用热风循环烘干。, `. N; |7 b0 V2 V7 W; r6 k
8.封孔处理:有使用水溶型及溶剂型两种。
! C) p8 X, a6 M Y* O; _电镀药水组成;
! N1 i4 X1 M/ w. {1.纯水:总不纯物至少要低于5ppm。
; P" u) Q) \9 f$ t! w& d( o2.金属盐:提供欲镀金属离子。2 F L X+ [5 a6 }1 q
3.阳极解离助剂:增进及平衡阳极解离速率。
/ h% u- ` `9 k7 s. {4.导电盐:增进药水导电度。
% y/ X% u; j( e! n$ Y1 [5.添加剂:缓冲剂,光泽剂,平滑剂,柔软剂,湿润剂,抑制剂。# a- Y u, z% }
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电镀条件:
4 B& L% X; w0 ]! @1.电流密度:单位电镀面积下所承受的电流,通常电流密度越高膜厚越厚,但是过高时镀层会烧焦粗燥。$ l& u4 c9 w# W+ T9 x5 O& [/ m0 a" c
2.电镀位置:镀件在药水中位置,与阳极相对位置,会影响膜厚分布。
3 n# |: a& V2 Q! d5 O# r4 E3.搅拌状况:搅拌效果越好,电镀效率越高,有空气,水流,阴极摆动等搅拌方式。
8 H7 y5 e% c! M0 i5 A% P4.电流波形:通常滤波度越好,镀层组织越均一。) i, i7 M' m1 P% q
5.镀液温度:镀金约50~60,镀镍约50~60,镀锡铅约18~22,镀钯镍约45~55。7 j3 N) n& E, k3 @% D* s; S% B
6镀液PH值:镀金约4.0~4.8 ,镀镍约3.8~4.4,镀钯镍约8.0~8.5,
7 l( F+ K& }6 D- ~, y- @' b" B: r7.镀液比重:基本上比重低,药水导电差,电镀效率差。! _% ^) i" @1 I: p
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电镀厚度:在现在电子连接器端子的电镀厚度的表示法有a .µ``.微英寸,b. µm,微米, 1 µm约等于40µ``.
7 P9 c/ s! m+ |$ s4 s. N1 S1.Tin—Lead Alloy Plating :锡铅合金电镀
0 j3 ?3 K# K5 T4 x, h作为焊接用途,一般膜厚在100~150µ``最多.' B& C( l, e% U% _
2.Nickel Plating 镍电镀
0 _. K) X$ @1 H现在电子连接器皆以打底(underplating),故在50µ``以上为一般规格,较低的规格为30µ``,(可能考虑到折弯或者成本)+ [- z9 |( B X) k; M
3.Gold Plating 金电镀9 p5 @8 U, t; x, a, n
为昂贵的电镀加工,故一般电子业在选用规格时,考虑到其实用环境、使用对象,制造成本,若需通过一般强腐蚀实验必须在50µ``以上 .
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. [9 J0 W8 u* I9 @/ j; a镀层检验:+ w* W! N! v0 X5 |0 w& v+ u
1.外观检验:目视法,放大镜(4~10倍)7 a) C2 V8 u0 N( S1 v
2.膜厚测试:X-RAY荧光膜厚仪.; q; a* b9 {8 s3 [
3.密着实验:折弯法,胶带法或两者并用.+ [* T9 m( X2 [/ f p
4.焊锡实验:沾锡法,一般95%以上沾锡面积均匀平滑即可.9 P# s1 k0 y6 `9 I2 w4 A# G
5.水蒸气老化实验:测试是否变色或腐蚀斑点,及后续的可焊性.
. K+ n% y" Z, C( [, `8 g, ]: K6.抗变色实验:使用烤箱烘烤法,是否变色或者脱皮.2 Q5 E( u3 e5 I) q' H4 F" }
7.耐腐蚀实验:盐水喷雾实验,硝酸实验,二氧化硫实验,硫化氢实验等.6 O1 Z) }5 R( \# C) V
摘自:http://jxwy2008.5d6d.com/thread-1494-1-1.html
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[ 本帖最后由 xiaobai999 于 2009-5-14 13:55 编辑 ] |
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