化学镀银简介

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化学镀银简介

化学镀银使工业上最早应用的一种化学镀，曾广泛应用于制作保温瓶和镜子。银镀层发射率高，导电、导热性能优良。可焊接性好；但银是贵金属，而化学镀银溶液因稳定性差，基本上只能使用一次。因此，目前主要用于电子、光学和国防工业中。如制作发射率极高的发光镜、高导电性的塑料件以及用于某些难以电镀、形状复杂的非导体零件，如波导管等。

  
% ?1 |2 H( m8 L3 b) c银的标准电极电位为0.8V，很容易被还原。使用甲醛、葡萄糖等弱还原剂，在室温下进行化学沉积即可。

  
化学镀银溶液稳定性差，所以银盐溶液和还原剂溶液应分别配置，镀银前再混合使用。多数溶液只能使用一次即由于分解而不能继续使用。镀银时的主要反应为：

[Ag(NH3)2]OH + H(还原剂)→Ag↓ + 2NH3 +H2O

一银镀液的配置

（一）

8 Q3 C8 N. l4 T8 {* C; K' H银盐溶液

1）
用适量的蒸馏水分别溶解硝酸银和氢氧化钠（钾）

2）
边搅拌边缓慢地把氨水加到硝酸银溶液中，至产生沉淀。其反应为

  AgNO3 + NH4OH → AgOH(褐色)↓+NH4NO3

  AgOH → Ag2O(黑色)↓ + H2O

继续加氨水，使沉淀完全溶解，再过量加2-3滴，其反应为

  Ag2O + 4NH4OH →[Ag(NH3)2]OH + 3H2O

3）
如果配方中有氢氧化钠（钾），向上述沉淀物刚好溶解的溶液中，边搅拌边加入氢氧化钠溶液，又形成沉淀；再滴加氨水，使溶液清澈透明后过量滴加2-3滴氨水。

4）
! n; \: {0 r; R" r3 v9 N8 \8 l; Z加蒸馏水至规定体积，放入褐色玻璃瓶中避光密封保存。

（二）
' l; d! ~: y$ |- K! l
还原剂溶液

1）
5 c# Q4 Q5 w- ?% l, Q1 p0 h* S$ r葡萄糖与酒石酸还原液，在蒸馏水中一次溶解葡萄糖和酒石酸，煮沸10min，冷却后加入乙醇。

2）
( c+ {1 u0 `) l% a普通还原液，如配方2、3、4。用适量蒸馏水溶解葡萄糖或酒石酸钾钠。完全溶解后，加蒸馏水至规定体积。

3）
3 p, v, z4 d) t  V" w' a醛类与三乙醇胺还原液，如配方8、9。边搅拌边把三乙醇胺加到适量的蒸馏水中，再加入甲醛或乙二醛和余下的蒸馏水。

还原液要避光保存。使用时，将银液与还原剂液按规定比例的容积比混合。

（三）二甲基胺基硼烷作为还原剂的溶液

！）各固体药品分别用少量蒸馏水溶解。

2）混合银氰化钠溶液和氰化钠溶液。

3）将氢氧化钠溶液加入到2）中

4）边搅拌边缓慢地向3）溶液中加入二甲基胺基硼烷溶液。

5）用蒸馏水稀释至规定体积，过滤后使用。

3 O( O8 Y! N. @. n  V

三工艺说明

（一）镀液组成和工艺条件的影响

1）主盐
" X  u6 F2 ^5 U, Z. P0 P# o一般用硝酸银。沉积速度和厚度随其浓度增加而增加，但不利于溶液稳定性。

2）络合剂
用氨水形成银胺漯络离子溶液，氨水浓度增加溶液的稳定性，但过高的浓度则就减缓电沉积速率，氰化钠作为络合剂，浓度低、沉积快，但稳定性差。

3）添加剂
氢氧化钠是速度调节剂。它的浓度增加沉积速度提高，但过量则会促进溶液分解。

4）还原剂
5 e7 S8 f8 G. s4 s' S% r% M0 T还原剂的能力从此奥到大的顺序是甲醛、葡萄糖、就是酸盐、甲醛作为还原剂会使镀层晶粒粗大，反射率低、结合力较差（8MP），酒石酸盐所得的镀层结合力强（16MP-20MP）；葡萄糖价格低廉，镀层质量好，但操作较麻烦。提高还原剂浓度可增加沉积速率。

5）温度
+ A! |- y. B- W+ _. m. [温度高沉积快，温度低稳定性好，一般在室温或低于室温施镀。

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（二）注意事项
5 h1 u& |- r$ O+ @) D# s6 ?8 }1）由于化学镀银溶液的稳定性差，镀液最好配置后立即使用，需要存放时，应密封、低温、避光下保存。溶液水分蒸发时可能会在器皿壁处形成易爆炸的雷银（AgONC、AgN、AgNH3等混合物）
使用过程的废旧溶液加入盐酸，以生成氯化银沉淀，可以避免雷银的生成。同时能回收废液中的银。
2）化学镀银溶液稳定性差，只能使用一次。因此，银盐溶液和还原剂溶液必须在使用前才混合，同时应尽量提高装载量。
3）化学镀银层在空气中容易氧化变色。毒瘾后工件应立即清洗，及时进行电镀或涂有机保护膜。
, H. T4 V: N; ~5 m% t2 v5 I
+ J  f$ {: x. w3 L

; w4 ?4 y# B; F; J
* a& q( R& [8 _7 v* W
8 m6 N6 e/ n5 H; f& [2 m  k& s/ M2 D      化学镀银工艺
溶液组成及工艺条件g/L        1        2        3        4        5        6        7        8        9
A        硝酸银AgNO3        60        16        20        10        60        25        10        19        25
        氢氧化钠NaOH        42                                                                        
$ U; x& p/ I5 V        氢氧化钾KOH                 8                 20                                             
7 \# F: T- y. ^: W, E        氨水        适量        适量        适量        12        60        50        适量        适量        100
B        葡萄糖        45                          40                                             
        酒石酸        4                                                                        
        酒石酸钾钠                 30        100                                                      
) n1 \' B& @, T7 E# v/ N        甲醛                                            65                          71         
        硫酸肼                                                     9.5        20                  
8 ~" t" u3 [- N9 g        三乙醇胺                                                                       7        8
. Z7 N! _+ d& R        乙二醛                                                                                20
5 x! R- u0 {; P5 M, |        氢氧化钠                                                              5                  
9 p" O  ]* t' J; a0 @- m& C        氨水                                                     10                           
        乙醇        100                                                                        
& ]2 E- G3 x5 x& g- ]" K; F8 Y# f温度        15-20        10-20        10-15        15-20        室温
" Y# m$ ^2 D+ U5 [5 _( m( @时间min                 10        10                                                      
A、B液体积比        1:1
1-6为浸镀液，7-9为喷镀液
; s% ~+ c+ X" J2 D2 N) G, H) U
$ |5 c' G1 j) A: T1 q
( T/ n. q6 f' Z- Y
: ?5 H2 `9 e, h" P1 L用二甲基胺基硼烷作还原剂化学镀银工艺
$ K7 \; n8 c# M' j; H" w: i5 s: m成分参数工艺（g/L）        参数
/ b1 T. f/ c7 o- @3 k1 y; l2 C银氰化钠 NaAg(CN)2        1.83
氰化钠        1.0
二甲基氨基硼烷[(CH3)2NHBH3]        2.0
$ c1 ^: T9 O# B( o# u硫脲[CS(NH2)2]        0.25×10-3
氢氧化钠        0.75
温度        60
8 B4 n2 \- h5 |) ]1 U沉积速度 10-6m/h        4