|
|
发表于 2010-6-8 16:01:19
|
显示全部楼层
来自: 中国上海
4.3以Nozzle flow method量測流動性:: R: ?" e" N% Z7 G& v! e- h
- C: r: b {: k* r- e0 X% G5 }
(1)將錫膏在室溫或25C回溫2-3小時3 v0 ~$ V* X1 s7 N4 y/ a; ~7 j
(2)打開錫膏罐 ,攪扮錫膏使之均勻,為避免太多空氣進入,攪扮時間以1-2分鐘為宜5 v9 [$ \* m2 O$ D3 q: g
(3)將待測錫膏注入內徑23mm之注射器中,並避免空氣進入6 Z1 x' ?3 y( ]. v V
(4)將此注射器翻轉,使注射器在設定的10ml位置,並由加壓使注射器在10 ml位置將錫膏擠出,填滿錫膏約2/3深度使其達到10ml位置,並以石蠟活塞頂住錫膏+ I4 D i8 r# }& ]
(5)將錫膏卡匣置於密閉容器中
: `" {5 q' P4 d5 S. [, O(6)錫膏卡匣直立狀態下,在恆溫箱中25±0.25C維持4小時
- ~; k8 A9 ^$ P7 l1 L(7)以IPA溶劑清潔玻璃片
3 e5 z. P& G6 V! j/ R(8)準確量測玻璃片重量至0.001g精度
, j5 Q& g! L6 z4 ](9)由恆溫箱中取出卡匣,並以支撐物支撐
& F) x x. f% c1 Y- N9 e(10)以0.2MPa壓力作用於卡匣錫膏上20S
8 |, g1 T7 i4 U) j- q: Y; f' V(11)水平置放玻璃片,針嘴離玻璃片2mm,如圖所示' E! y, l$ [' g" _$ W2 H! {
(12)分別在壓力0.2、0.3、0.4、0.5MPa作用10秒,並移動錫膏位置,每個測試條件下移動三次
, S5 U, b) c7 F4 K% D/ ~" J(13)量測玻璃片上錫膏的重量
z/ t* a9 W# h1 @* d+ ^(14)求取以上測試條件之錫膏重量平均值! r0 O: B% y1 l# S
4. 評估方法- K! x8 M: d& F# j9 B
" C8 O- d9 o2 S6 B3 q黏滯度剪應變速率曲線和觸變性(觸變指數及錫膏非回復率)是由黏滯性量測而得,而錫膏之流動性則是由此特性而估算出,此外,亦可由Nozzle flow 法中玻璃片上的錫膏量測得錫膏流動性
2 w5 y# s# g: ^3 j5 v) R7 M& S( ~" l9 ]
5.1黏滯性-剪應變速率關係:
" s |0 U$ i& M. L0 ^+ F
" C2 D2 e) j& h 黏滯性-剪應變速度曲線(logη-logD),可由前述黏滯度量測結果得到
8 l( h% i& O4 L5 ]1 v8 h* @其中,η代表黏滯度 D:剪應變速率
- g, k3 z+ s3 w2 d: D8 n) j0 LD1=1.8S-1(3RPM):螺旋法3 g. S2 g4 D) j$ P2 s. B! ^
D2=18S-1(30RPM):螺旋法
/ s+ j& D4 }7 V, I) g7 mD1=5S-1(2.5RPM):SPP
- z ?) M7 R. g$ f6 AD2=20S-1(10RPM)1 Z$ W4 f8 J0 }+ q6 p" k7 B
5.2觸變指數(Trixtropy Index,TI)
& ?5 N0 J& a7 x4 v 觸變指數由自然對數之黏滯度-剪應變速率曲線(圖2)中之梯度獲得,
: L4 x# ~. O3 G5 j9 A4 b+ X0 ^% \8 hTI=log(η1/η2)/ log(D1/D2)
* a. ?# }$ A1 i7 t7 r6 G0 P其中- u6 g: m7 n5 C% b/ B: A
η1=剪應變速率D1時之黏滯度9 V8 ~# i& d$ d* p
η2=剪應變速率D2時之黏滯度$ O! M5 Z& S' @ t, C5 g) {" v4 j
D1=剪應變速率
1 N$ ~2 H$ {: n& N; a3 CD2=剪應變速率5 R9 o; r" v2 [
5.3黏度非回復率(R,Rs)
9 m. m, ^: W+ V/ m8 C8 z% i黏度非回復率R、Rs由黏滯特性ηb或η3代入下列公式獲得,在設定的速度的速度下量測黏滯度ηa及η1,並由改變速度量測黏滯度,並回復至初始設定速度以量測ηb及η3(如Annex中之圖3圖4)
# f# q6 f. a6 Z2 m8 T% n
# n" E; U$ [+ f* [(1) 以SPIRAL METHOD 之黏度非回復率
: N3 _" w4 W; j5 yR=「(ηb-ηa)/ηb」x100%
( `; H* ~: \, d- V _" Z以SPP法之黏度非回復率
* \5 e j. x$ U; Q6 ]4 U0 e7 v. XRs=「(η1-η3)/η1」x100%' P2 H2 v0 h# w6 O9 R* j* K6 a6 e- g. a
# W6 F- W% v% m" B x" o0 u6 `其中ηa=剪應變速度為6S-1之初始黏滯度
6 V I: _8 c8 E! ~7 P$ X2 \2 iηb=剪應變速度為6S-1之回復黏滯度% l/ u1 u, R" _2 ?
η1=剪應變速度為5S-1之初始黏滯度
# C: e+ u+ j1 P; ?ηa=剪應變速度為20S-1之回復黏滯度% V) ?, h$ ]9 e" u2 u: l& q5 C
註:
% S! P5 [% Q$ l& O( }剪應變速率由以下關係獲得
- C: p' V* A. I# r. _( U% q4 z3 eSPIRAL METHOD:RPMX0.6 S-1" O4 e: a* F1 D$ p
SPP METHOD :RPM X 2.0 S-1
k; i+ j# P; C( b& {& j7 \5 ]0 k! R. X4 P" H
5.4以Nozzle Flow 量測錫膏之流動性; [- b0 e" B( B# _% d% H; {# k+ k9 P+ q# }
, Q, Y- C3 t2 |: P2 m3 o! r 流動性由停留在玻璃上的錫膏重量(M)和重量差異(ΔM)代入公式求得:: Y. @7 n! g% _4 m9 l
ΔM=MMAX - MMIN
/ m+ Y; M7 M- i# Q* W0 ~其中,MAX代表最大錫膏量,MIN代表最小錫膏量$ l, a. l: q! N6 y4 s
錫膏坍塌試驗(印刷過程)
5 z- x0 ^9 ]! i. R" z( m. I% _' S- g) }# T! ]7 ?; i4 K
1.範圍 本測試係規範錫膏印刷後,進入迴焊過程前之坍塌性質評估方式. A0 R6 \) w7 D/ J5 r
. D! K6 r4 F* h5 H6 R
2.測試方式 在測試條件下評估錫膏在銅片上散佈的程度$ r: S! c/ e4 ?7 j* X" M
( [& P# l& e/ ]6 s" c$ ~7 a3.設置、儀器及使用材料0 }% u D$ I/ i: b7 ]: ^
_0 F' f, r9 R5 S& c/ J' S(1)銅或不鏽鋼材質之鋼版,厚度為0.2+0.001m,並依圖(I)3.0X0.7 mm (II)3.0X1.5mm兩種開窗,二者 開窗間距從0.2mm開始以0.1mm為單位增量至1.2mm
# v. A* A0 _9 j3 }* T8 C- |. l(2)鍍層銅片(80x60x1.6 mm)
; X. A' I# L# S/ p, v/ \(3)空氣循環式加熱爐(加熱溫度200OC或以上); U+ k; j% v* ~5 G, A! M
(4)研磨砂紙(600#)
. [2 u1 b. `0 C5 Z/ E! Y* J5 O(5)IPA清洗溶劑
7 D: u( r6 T5 v4 R0 i; g3 B5 U; \" N. y! I
4.量測步驟
* i4 K ?1 c$ [6 T+ [(1)以砂紙磨除銅片表面之氧化物,並以IPA溶劑洗淨
3 s$ [* B, e& Q U0 k(2)將鋼版置於銅片之上,以刮刀將錫膏印刷於銅片上,之後,移開鋼版
$ z1 a ?6 p: |3 x2 b4 y+ u) N(3)將待測試片置於室溫下一小時$ c, R+ @+ f, @: v
(4)量測與記錄二種鋼版開窗中五列錫膏並未產生錫橋的最小間距; N$ M8 @* O& x9 E
' \" O6 p! j& U' k5.評估方法) T1 A+ g2 q- [2 x) c6 e7 C& k# P
, s3 b; N7 Q4 R0 a& d( a7 v
評估標準取決於二種鋼版開窗錫膏並未產生錫橋的最小間距
9 S4 B/ v# D; r: F錫膏坍塌試驗(加熱過程)
& ]& P6 a3 O" l/ l# A" u0 h ^+ l
" R1 I6 h+ B$ o+ l1.範圍 本測試係規範錫膏在迴焊過程的加熱階段之坍塌性質評估方式; E- s4 u1 d8 @# i/ R# i
9 J; i2 t3 ^; V" n( G2 S1 e2.測試方式 在特定加熱條件下評估錫膏在銅片上散佈的程度
$ E+ p# g+ T% m& z3 n' X t% [! \
" g, u: G% r0 o* y! ?& A$ P3.設置、儀器及使用材料6 `* z- V1 G2 b; h
# r+ k: u8 }0 S6 I% E7 M5 x1 X
(1)銅或不鏽鋼材質鋼版,厚度0.2+0.001m,並依圖(I)3.0X0.7 mm (II)3.0X1.5mm兩種開窗,二者開窗間距從0.2mm開始以0.1mm為單位增量至1.2mm
4 F5 v* j+ ^8 E4 D/ R9 S# R" ]! B(2)鍍層銅片(80x60x1.6 mm)" G/ k, j) e( g, S# y5 C S
(3)空氣循環式加熱爐(加熱溫度200C或以上)
; i2 N! s* s: [7 l(4)研磨砂紙(600#)
6 z: ^" X5 H/ m" `6 m(5)IPA清洗溶劑
' V( S& f4 c, |3 j! r6 i# M; v3 T" a6 ]$ d$ {. I) Y# V
4.量測步驟
* F- _, C7 V. |. s m3 w(1)以砂紙磨除銅片表面之氧化物,並以IPA溶劑洗淨
9 o+ Y1 h- Z) ]3 O(2)將鋼版置於銅片之上,以刮刀將錫膏印刷於銅片上,之後,移開鋼版5 @" A, r( P7 L& D& N1 f- w
(3)以空氣循環式加熱爐150OC加熱待測共晶錫膏試片一分鐘,或是以低熔點錫膏的固相溫度下10C作為加熱溫度0 Q. `7 h( m0 }1 E( M$ D6 d( e! T
(4)量測與記錄二種鋼版開窗中五列錫膏並未產生錫橋的最小間距* p9 x) a- V5 A+ H$ z! b
, Z2 j- h- ?/ T4 h' L n% t8 \/ ^5.評估方法( M! P% F; E! @8 i: ?! p5 c3 u7 z
8 U2 D$ x# }* Y" u) q9 T 評估標準取決於二種鋼版開窗錫膏並未產生錫橋的最小間距+ b- j. q$ W8 X' M# s. r
黏滯力測試3 Z- ~) E! b W
9 a g# F. e6 `) L' p7 W2 T1.範圍 本測試係規範錫膏黏滯程度之量測與評估方式
4 G5 K* F1 t( c; N0 y" X1 B* P5 n3 f2 M7 z0 [" |) G
2.測試方法 此黏滯力測試係在特定量測條件下針對乾燥中的錫膏,探針接觸錫膏後拉離錫膏表面的最大拉伸應力
1 H. v" _: v7 d) K/ m
5 ~! L9 \7 ^$ |2 ]& e! q: O5 ~3.設置、儀器及使用材料
( I7 q) W) @7 _9 Y1 ^
: t# X+ h9 {. [3 \# n(1)黏滯力量測儀器# O Q% g! L6 B
(2)鋼版 鋼版厚度為0.2mm,其中有四個6.5mm直徑圓開孔& M' t9 {; b' O+ ]; o) t5 N+ X$ m
(3)不鏽鋼製的圓柱探針 探針直徑為5.10+0.13mm,連接在黏滯力量測儀器上,探針的底部為平面,能平行試片上之錫膏表面。
5 s( K1 f0 s0 T) t% r% q) D2 F. ^(4)載玻片(76X25X1mm)
3 L2 e" g; D: n s* |/ a2 Z(5)固定裝置 固定載玻片裝置* V% ^- x) L- w
(6)溶劑 溶劑用來清潔探針表面油脂,及溶解錫膏FLUX,如IPA之類溶劑。
2 J" J3 Y/ S, Y, x4 M* \9 N1 D2 F- \6 b2 \2 L. q ?
4.量測步驟:量測步驟如下:
% f+ Z0 U( t, }( _5 \7 G) W' t
4 ~9 A- ^. K) o4 _(1)利用鋼版將錫膏印刷在玻璃片上,開窗形狀為4個厚度0.2mm、直徑6.5mm圓形開孔(四個錫膏印刷形狀厚度應均勻一致,可避免錫膏顆粒散開)
2 K k& r$ }4 P& C. j
X! V4 k# B7 b/ ]; x. b(2)上述步驟應在室溫25±2C,相對濕度50±10%條件下進行
3 ?5 S1 ^! O- R+ v& R
E4 Z4 Z% Y+ [6 O( U(3)試片移置探針下方,探針對準錫膏的中心位置,以2.0mm/s將探針降至錫膏表面,並且施壓50±5g,在施壓後,探針在0.2秒以內以10mm/S速度向上拉離錫膏表面,記錄拉離的最大負荷,同一條件下作五次量測,並求取平均值,而黏滯力強度KN/m2,則可由此最大負荷計算出。9 r$ z" `$ ]1 v/ S6 H
( y! e6 b' ^+ Z4 @% T, B* f m6 e- M
(4)印刷後置放時間與黏滯力強度的關係,可由上述步驟得到。* U0 h1 |: a) ]' S
q# V; `5 z4 q% _0 N( A! [+ U
5.評估方式4 f- S/ {6 [5 s) F* p9 Q9 o
' r, s( x% s. s' s C, \# y由錫膏印刷後置放時間與黏滯力強度的關係,得錫膏黏滯力的強度之優劣關係' g, l$ l3 N0 [' p! s$ \
潤濕與抗潤濕效果測試1 Q# I4 k/ M9 E/ r2 h
1 j. S+ j- q0 B1. 範圍 本測試係規範錫膏潤濕效果量測與評估方式, g, r$ A' u" H1 j6 }
/ G" C5 C. H0 ?( v& `1 u4 g
2. 測試方式 在測試條件下量測錫膏熔化後在平面基材上的散佈情形
" ]* K" X/ D$ u" y+ u5 W; N# ?' X6 r) }8 ^, m, h6 k% d' m
3. 設置、儀器及使用材料
' V( R2 J8 y' v/ i; |(1)銅片 (二種規格)2 e% S" J, M3 [( s2 w. z9 L
無氧磷化銅片 符合JIS H3100 C1201P或C1220P規格要求之銅片,尺寸大小為50X50X0.5mm
: D3 y _/ Y" n; E5 t黃銅片 符合JIS H3100 C2680P規格要求之黃銅片,尺寸大小為50X50X0.5mm
8 k; o" a: O/ s+ I(2)砂紙(600#), B$ c4 @& P* {4 p; [" Q: g5 J
(3)IPA8 q8 ^0 ^" g b$ k& @4 C$ X
(4)鋼版 厚度0.2mm且含直徑6.5mm圓開孔四個,且每個開孔中心彼此相距10mm1 E7 I6 y/ `; J' Q. r
(5)攪拌刀; I- |$ m# A( L2 F
(6)手套8 s( L# o5 V, I T0 B
(7)空氣循環爐 Q* `8 m7 C w5 [8 F/ C5 w2 v9 [
(8)錫浴 錫浴尺寸至少須(100x100x75mm以上),若使用60Sn/Pb錫膏合金,則錫浴溫度應維持在235±2OC或215±2OC,用來沾錫的工具應使用較不吸熱者為佳。
7 u- p n0 d5 x- u
2 |9 Y# F- ]/ }) S. r4. 測試步驟:以下步驟應個別測試銅片及黃銅片,操作時應戴手套以免污染試片5 Q% b+ v4 X. Q/ M2 {' N5 @5 X% V$ k
(1)設定錫浴溫度為225+-2C,使用VPS則設定為215+-2C6 V: a6 W0 L) i! G/ B) L' t) Y3 z
(2)將錫膏回溫至室溫: n. n' S9 |# j. o$ |- D1 J* _8 _
(3)以IPA清洗銅片及黃銅片7 G9 l0 I. m9 v6 y
(4)以濕砂紙將試片拋光,先拋光一方向,接著再以垂直方向進行下一次拋光
2 k3 G* H$ N7 p, m9 s1 o0 y; e+ D(5)以IPA溶劑清洗銅試片表面9 q$ u. M9 x, |( [3 C0 W! V
(6)以攪拌刀攪拌錫膏均勻1 u# u( Q& X3 j* L V, U% B* O4 h
(7)將鋼版置於銅片上,銅片須於拋光一小時內進行
1 ^/ F! Q, I' B q) Z8 C(8)使用刮刀均勻的將錫膏填滿鋼版開孔
2 S: k7 H& X; g2 `8 I& \/ m7 b1 K(9)從基材上移去鋼版2 h7 y! ~& r: x4 @/ q, V
(10)在空氣循環爐中設定溫度150C,將錫膏烘乾一分鐘8 N8 d) P% E2 J0 q4 u" x; a/ I3 { \
(11)以刮棒清除錫浴表面氧化物$ K! T5 L6 n9 N7 d z1 Y: x4 u7 P
# ~5 P! g4 [& F3 ?(12)垂直的將試片接觸錫浴表面,並使錫膏熔化
( l, t, A4 v0 A- z- T9 k, O# I(13)錫膏熔化五秒後,垂直移開試片使之冷卻# U( C" q# w, L+ [) V' N
(14)讓基材在垂直狀態下冷卻,使液狀錫膏在基材上穩定下來。
/ I4 U# t% |0 A% H(15)檢查錫膏在銅片上散佈的程度
+ J3 Q7 `0 t0 ~) N9 I( J% O/ Y
! Q$ }8 l" D" e; @# }. w- d5. 評估方式:如 Annex10中表一所列程度分級
6 w" |1 S P4 f3 F. G4 ?- w- }( T* T9 x' g. Y" M" {9 W
等級 散佈情形
2 z) j5 j( I6 q' e I4 x/ O1 錫膏熔化後潤濕基材,潤濕區域比錫膏印刷面積大8 z* i; q- m B, D% Z2 ^! N: }
2 所有印刷區域均被熔化後錫膏潤濕, B0 u# B6 c8 J& m6 d
3 幾乎所有印刷區域均被熔化後錫膏潤濕5 ?8 Q6 l; k( v6 x- Y" W
4 似乎無潤濕現象,錫膏熔化後形成單顆或數顆圓球(包含不潤濕現象)
! A4 [! m/ @9 }' D0 s, y% N9 {6 b. ?! U$ \. c
附註
: {( g) w% B; I) Q% |1錫膏有時會因毛細現象作用而沿著基材裂縫延伸,此散佈區域,不須列入考量5 G+ u7 j5 }# w3 E: C9 e
Z1 W+ H' m, Y2.一些小錫球產生是因為迴焊效果不佳,不須列入考量/ B0 R; m$ P$ T
4 Z) K, {. b' E9 D
3. 錫浴溫度設定為235+-2C,是基於共晶錫膏的考量,若非使用共晶錫膏,錫浴的溫度可選用錫膏合金液相溫度加50±2C,若使用VPS,則溫度可設定215±2C。
1 \5 i( k5 P+ U; T2 h* O9 N(12)垂直的將試片接觸錫浴表面,並使錫膏熔化
* w4 u& c6 f' x2 H( k(13)錫膏熔化五秒後,垂直移開試片使之冷卻
" Y ^1 }. k+ h1 f2 V3 c(14)讓基材在垂直狀態下冷卻,使液狀錫膏在基材上穩定下來。
8 S7 m& H+ {1 q/ V$ h! s Y& E(15)檢查錫膏在銅片上散佈的程度9 W3 S( Y) Q/ Y, C4 ?
3 z' |; f1 T& [9 C5. 評估方式:如 Annex10中表一所列程度分級
: L0 ?# f' @7 D( a- j( ~% r& A9 c- z, d9 e/ n5 e
等級 散佈情形+ ?3 s9 N) a# i3 U" B& O2 Z3 ^/ D
1 錫膏熔化後潤濕基材,潤濕區域比錫膏印刷面積大& N" f( _' G# b1 w3 u
2 所有印刷區域均被熔化後錫膏潤濕
" k/ {1 X7 A c- n4 U% \; R( e3 幾乎所有印刷區域均被熔化後錫膏潤濕( ?# E& J9 }$ h
4 似乎無潤濕現象,錫膏熔化後形成單顆或數顆圓球(包含不潤濕現象)( Z$ O4 _; c- \ m4 P( r! v8 U
" j5 M; J3 z; k7 h; T/ V附註. M1 \, g, ? ~
1錫膏有時會因毛細現象作用而沿著基材裂縫延伸,此散佈區域,不須列入考量
2 g" E# U* \+ f* S$ `( |$ ]/ ?
6 W. b! x+ V7 U: f2.一些小錫球產生是因為迴焊效果不佳,不須列入考量
$ x5 O1 ~1 N$ d" H2 `. t- {# e4 U4 x! \: s
3. 錫浴溫度設定為235+-2C,是基於共晶錫膏的考量,若非使用共晶錫膏,錫浴的溫度可選用錫膏合金液相溫度加50±2C,若使用VPS,則溫度可設定215±2C。# O5 B/ \( a- s; i) R* v
所有凝固的錫膏(錫球的分布)須利用放大鏡(10~20倍)觀察,顆粒大小和數目利用50倍放大鏡計算,評估方法依附件11中表一和圖一為標準0 v8 E5 T* _4 |* j" w
/ @9 W% V2 P: Z! d( X( k表一 錫膏顆粒凝聚現象
8 h, Q9 e4 _# {. n h$ e! g2 W4 v$ o* M$ l$ @( E' S" A# i+ Y
) R: p# N, O- z0 u0 f' Z凝聚程度 說明 5 o2 R$ ?8 {3 M7 d5 v
1 錫膏熔化形成大圓球,周圍無錫球 ( t- m* C' j6 S8 h: W. ?/ }" E
. N7 z8 f! y' E& h1 Z
2 錫膏熔化形成大圓球,周圍僅有三個以下直徑小於75um的錫球 : b/ q6 U4 Y% N, v7 L p
1 W% L1 x9 u& R% q! `9 d3 e
, v+ j- F5 [" b& d/ W* F
3 錫膏熔化形成大圓球,周圍有四個以上直徑小於75um的錫球,但他們並未形成半連續環狀結構 + O" x4 N7 n, i0 i( e4 b
l2 z% [: s. F+ S% E( _
* t' u, R" x1 v6 G# E4 h6 @" I1 K4 錫膏熔化後形成大圓球,周圍有許多直徑小於75um的錫球,並形成斷續環狀結構 5 T( X( U$ I' \8 R0 w
, S0 q- Y' {; {
7 y3 F9 N/ n; b9 a! K8 Z& w/ e' l0 F0 r, c3 s- p
所有凝固的錫膏(錫球的分布)須利用放大鏡(10~20倍)觀察,顆粒大小和數目利用50倍放大鏡計算,評估方法依附件11中表一和圖一為標準8 i5 O U+ K0 H
! }4 h# _" Q6 o0 E, t( K1 V
表一 錫膏顆粒凝聚現象
8 _. }: n7 c: O/ D
! U* j9 l9 s/ W8 E* S: a
F" l% M7 [ i* J" I凝聚程度 說明 7 d. z- D: z: y% \2 Q2 ^
1 錫膏熔化形成大圓球,周圍無錫球
6 f7 ]3 Y% Q# u9 N6 T+ w
0 x1 G7 A# T1 T# x7 N2 錫膏熔化形成大圓球,周圍僅有三個以下直徑小於75um的錫球 ! t$ \, D- p# I V
6 M* r$ ]+ ], S0 w! ~
; H7 L2 v1 {: N/ W3 錫膏熔化形成大圓球,周圍有四個以上直徑小於75um的錫球,但他們並未形成半連續環狀結構 : l3 _! @* A$ U, U
$ Y4 A6 @0 _0 a
( X, P- l4 `! g, G, w* ?/ x4 錫膏熔化後形成大圓球,周圍有許多直徑小於75um的錫球,並形成斷續環狀結構 - |- h* Y3 `/ M w8 K: U0 W6 W
8 G) k! Z/ Y# X0 R: x
; ~8 h* {+ E% b4 L3 y7 Q6 j$ ]
7 h; b/ _/ v1 C: v. A0 ]8 r7 s3 [
6)充分將滑石粉末灑在試片錫膏殘留物上,並用軟刷輕輕的刷過試片, g' U: F9 o2 s* g5 Q
3 M/ b7 Q5 Z0 [; R, w/ Y(7)以潤濕測試方式來評估優劣關係 |
|