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[新技术] 用CVD法在陶瓷颗粒表面获得TiN涂层与应用

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发表于 2016-6-1 14:07:39 | 显示全部楼层 |阅读模式 来自: 中国黑龙江哈尔滨

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用CVD法在陶瓷颗粒表面获得TiN涂层与应用
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摘要研制了适合陶瓷颗粒表而涂层处理的化学气相沉积装置,并探索了在氧化铝颗粒表而获得T iN涂层的工艺;所获得的T iN涂层能提高耐热钢在氧化铝颗粒间的铸渗深度,并使颗粒得到基体的牢固支撑氧化铝颗粒体积分数在23% ^ 57%可调( p4 |+ K" h7 Q6 \) _* V' i9 u: K
关键词化学气相沉积,T iN涂层,氧化铝颗粒,耐热钢基体,复合材料  I4 ?1 r1 a' r& G0 b! i( c2 f; f
中图分类号TB331, TQ174.7585 Z6 j  X2 [- W2 ?% i; \% {% s

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用CVD法在陶瓷颗粒表面获得TiN涂层与应用.rar

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