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第12卷第5期 中国有色金属学报2 n X- T; _0 p+ j9 i3 j! J1 j) Q
[文章编号]1004-0609(2002)05—0945-053 ^" B. H1 Z7 k
Cu．Ni．V．C合金对激光熔敷层性能的影响
) t/ I2 ^5 g0 I9 A3 Q( h: u栾景飞。严 密$ b6 @ l8 X6 x. T
(浙江大学硅材料国家重点实验室，杭州310027)
, o: p- [+ K" W- ?- l[摘要]在不预热情况下，通过调整熔敷金属cu和Ni的含量，改变铸铁激光熔敷层内奥氏体相与渗碳体相体积分数，分析了奥氏体相体积分数对熔敷层抗裂性的影响。在最佳激光熔敷工艺参数基础上，研究了Cu和Ni对熔敷层奥氏体体积分数、表面裂纹率及表面耐磨性的影响。获得的未裂l缶界熔敷层面积为55．1 cm ，其对应熔敷材料为Cu．Ni．C．Si．Fe。以此熔敷材料为基础，改变V含量，在熔敷层得到原位自生V C。研究了V C对熔敷层耐磨性的影响，分析了V C对熔敷层硬度及磨损质量损失的影响规律，最终获得了可显著提高熔敷层抗裂性及耐磨性的Cu-Ni-V．C．Si．Fe熔敷材料。1 @% D% z! Y& F
[关键词]激光熔敷层；Ni；Cu；原位自生V C；抗裂性；耐磨性
: w8 y, t Y1 F4 m9 ~( E, K4 T[中图分类号]TG40 [文献标识码]A
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发表于 2016-6-30 14:49:54
