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蓝宝石衬底的化学机械抛光技术的研究
2 h$ T/ p) m2 j5 [7 s: F 王银珍,周圣明,徐 军1 W1 u( i$ h) \: k9 r
(中国科学院上海光学精密机械研究所,上海201800)0 q2 e" W7 S5 Y# V
/ i: b# g9 ]; c# Z5 W2 F: E/ Y" m- o2 ^( p( C$ L8 Q5 j5 {
【摘要】介绍了蓝宝石衬底的化学机械抛光工艺,概述了化学机械抛光原理和设备,讨论分析了影响蓝宝石衬底化学机械抛光的因素,阐述了CMP 的主要发展趋势:能定量确定最佳CMP 工艺,系统地研究CMP 工艺过程参数,建立完善的CMP 理论模型,满足不同的工艺要求和应用领域,有效降低成本,提高产量。
- b- A/ U* |! {【关键词】蓝宝石;衬底;化学机械抛光
$ G$ c0 [$ S- |# d0 }+ C【来源】《人工晶体学报》2004 年6 月 |
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发表于 2008-1-17 19:39:18
