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[转帖] 电镀概论

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发表于 2009-5-14 13:53:25 | 显示全部楼层 |阅读模式 来自: 中国四川成都

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电镀定义:电镀为电解镀金属法的简称。电镀是将镀件(制品),浸于含有欲镀上金属离子的药水中并接通阴极,药水的另一端放置适当阳极(可溶性或不可溶性),通以直流电后,镀件的表面即析出一层金属薄膜的方法。% [$ J* S: T- i1 y1 A6 ]
电镀的基本五要素:
4 v( r4 o+ x* L# @5 O/ ?1.阴极:被镀物,指各种接插件端子。* z1 i# `6 I$ j. _/ ?. Q
2.阳极:若是可溶性阳极,则为欲镀金属。若是不可溶性阳极,大部分为贵金属(白金,氧化铱).6 T! R2 ~: |* U0 V! s
3.电镀药水:含有欲镀金属离子的电镀药水。
' e; U, n* i1 W+ Y3 w/ x4.电镀槽:可承受,储存电镀药水的槽体,一般考虑强度,耐蚀,耐温等因素。; F, a/ f  C1 e# U
5.整流器:提供直流电源的设备。
5 {" }" {$ e. o7 B8 k  电镀目的:电镀除了要求美观外,依各种电镀需求而有不同的目的。6 a- }: T9 K6 O- N
1.镀铜:打底用,增进电镀层附着能力,及抗蚀能力。
) e- d. o( p+ s( a7 |2.镀镍:打底用,增进抗蚀能力。
' d* ?. p+ Q2 U; h& V2 V+ B3.镀金:改善导电接触阻抗,增进信号传输。# s" K; E. r6 f! C
4.镀钯镍:改善导电接触阻抗,增进信号传输,耐磨性比金佳。! k. I/ _0 S- y7 G" W. I
5.镀锡铅:增进焊接能力,快被其他替物取代。+ i2 I1 }# d6 Q. z5 x: Z4 ?
  电镀流程:一般铜合金底材如下(未含水洗工程)
  }, l7 c, [0 }0 U6 d1.脱脂:通常同时使用碱性预备脱脂及电解脱脂。
. o; J, D( \; Z% T$ [( H2.活化:使用稀硫酸或相关的混合酸。
% r* F' E+ C' d) S9 }( k  T3.镀镍:使用硫酸镍系及氨基磺酸镍系。/ t' X* t5 b. S  p: t) U
4.镀钯镍:目前皆为氨系。
4 c, \: ^! I! w, \8 E) S7 C5.镀金:有金钴,金镍,金铁,一般使用金钴系最多。5 c6 M8 G, Z0 `' e* A4 s$ T, d  ^
6.镀锡铅:烷基磺酸系。* J! Q, y6 P* `# `. J* \* |$ k
7.干燥:使用热风循环烘干。/ Q$ ]8 W1 A8 [7 K% ]. ~3 V! K
8.封孔处理:有使用水溶型及溶剂型两种。
" P& z: z. d$ @2 J7 B. a0 C7 b, ?电镀药水组成;
7 s: m) P7 f1 [# w$ K3 }1.纯水:总不纯物至少要低于5ppm。
7 D9 m9 J4 O. j3 x$ c  B2.金属盐:提供欲镀金属离子。
4 H* m/ O. \+ \: y5 N3.阳极解离助剂:增进及平衡阳极解离速率。
3 {( X; j" j% _  g$ I8 ?4.导电盐:增进药水导电度。' H$ R0 q8 ?2 t& ^. P
5.添加剂:缓冲剂,光泽剂,平滑剂,柔软剂,湿润剂,抑制剂。
& b& h. A0 z" R* j( H* c8 I9 k( }) G2 t0 o0 j! S4 a
电镀条件:& I! K0 ~& R8 o' F0 `( d
1.电流密度:单位电镀面积下所承受的电流,通常电流密度越高膜厚越厚,但是过高时镀层会烧焦粗燥。
  b/ G/ \$ E! d+ h  F7 `  q0 F1 ]0 x5 c2.电镀位置:镀件在药水中位置,与阳极相对位置,会影响膜厚分布。
9 d, P% }9 j- N' [1 Q3 ~3.搅拌状况:搅拌效果越好,电镀效率越高,有空气,水流,阴极摆动等搅拌方式。
" t: S, ~. w. B. A. j7 O; k, @4.电流波形:通常滤波度越好,镀层组织越均一。
) t* S2 L6 Z" n% M1 w. E& N5.镀液温度:镀金约50~60,镀镍约50~60,镀锡铅约18~22,镀钯镍约45~55。3 T2 R2 T$ B* c6 s" q+ f
6镀液PH值:镀金约4.0~4.8 ,镀镍约3.8~4.4,镀钯镍约8.0~8.5,9 M) H- V1 W& |' M1 @; N
7.镀液比重:基本上比重低,药水导电差,电镀效率差。
1 ]" j" E+ v1 p' j1 ?* k
% l! l( @5 T- f1 V) k& {( I电镀厚度:在现在电子连接器端子的电镀厚度的表示法有a .µ``.微英寸,b. µm,微米, 1 µm约等于40µ``.: X/ A9 |$ X+ s4 J0 \0 F, n5 J
1.Tin—Lead Alloy Plating :锡铅合金电镀
4 R+ P, B1 g+ E' v7 y$ B/ q作为焊接用途,一般膜厚在100~150µ``最多.
5 k' f4 \0 b+ X  A. \. s! q% n$ y2.Nickel Plating 镍电镀% u5 O, ^- B& L! W" b/ B
现在电子连接器皆以打底(underplating),故在50µ``以上为一般规格,较低的规格为30µ``,(可能考虑到折弯或者成本)3 ^. r+ `8 c' J. @5 `( g; r
3.Gold Plating 金电镀* d2 T9 b  @8 X7 T8 ~- g
为昂贵的电镀加工,故一般电子业在选用规格时,考虑到其实用环境、使用对象,制造成本,若需通过一般强腐蚀实验必须在50µ``以上 .
* {3 S/ @2 Z( M
# N- Y, t7 x) A" C" l# V镀层检验:
+ V! i. g% L( R1.外观检验:目视法,放大镜(4~10倍); x2 p' j/ g* W+ x* z$ h6 A8 r, w& m
2.膜厚测试:X-RAY荧光膜厚仪.3 Z9 f3 k; W- |4 `  l; ?" [
3.密着实验:折弯法,胶带法或两者并用.
( c9 f; I, X+ O4.焊锡实验:沾锡法,一般95%以上沾锡面积均匀平滑即可.
* j1 }- j! U- V$ t+ Q5.水蒸气老化实验:测试是否变色或腐蚀斑点,及后续的可焊性.( q  Y! o- p$ ]- v: p
6.抗变色实验:使用烤箱烘烤法,是否变色或者脱皮.5 i% \+ b2 ?& O& A3 ^  Z* b
7.耐腐蚀实验:盐水喷雾实验,硝酸实验,二氧化硫实验,硫化氢实验等.
7 U5 j+ t1 \( R+ c, F摘自:http://jxwy2008.5d6d.com/thread-1494-1-1.html
  ?" z% p9 B' C! P1 `1 z) H8 B7 K! O3 W# x
[ 本帖最后由 xiaobai999 于 2009-5-14 13:55 编辑 ]
发表于 2009-5-18 10:52:00 | 显示全部楼层 来自: 中国北京
好资料,顶了!
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