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发表于 2011-11-14 16:03:18
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来自： 中国黑龙江哈尔滨
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衣晓红，樊占国，张景垒，李凤华
1 M# R# @6 E4 m2 l" B2 }% Y1 {9 b(东北大学。辽宁沈阳ll0004)% j1 l: E+ m3 d, H. K0 o: L
摘要：采用固体粉末渗硼法对TC4钛合金基体表面进行渗硼试验。通过扫描电镜(SEM)、能谱(EDS)与X射线衍射. J' Q/ T0 h) p
(xRD)研究TC4钛合金渗硼后的物相组成和组织形貌，讨论渗硼过程中元素的扩散行为。结果表明：在lOOO，1050和
4 U; F1 \# V( G6 ?+ alloo℃分别保温5，20 h后，渗层由外表层的TiB2和内表层的TiB晶须组成，渗层厚度范围为0．8～15岬。XRD分析
8 f! i* x, n4 R% N表明：TC4钛合金渗硼后形成TiB2与TiB双相硼钛化合物层，随着温度的升高，TiB2与TiB的峰位增多；EDS分析得
7 k, l: U3 b9 V出表层B原子被TC4钛合金吸附后与基体的Ti化合导致过渡区域内的Ti含量减少，同时Al和v元素开始向基体扩散
" `6 w, y1 Z) j并在近界面处富集。渗层的显微硬度呈梯度分布，TiB2到TiB晶须维氏硬度值的变化范围为22 000～11 000 MPa，过渡
1 I3 M' c: d) D, J6 y8 D区的硬度值要高于基体的硬度值。. H* n9 h& Z' J3 B! S* ?' B
关键词：固体渗硼；TC4钛合金；显微硬度；组成；硼钛化合物： |
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