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[新技术] 用CVD法在陶瓷颗粒表面获得TiN涂层与应用

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发表于 2016-6-1 14:07:39 | 显示全部楼层 |阅读模式 来自: 中国黑龙江哈尔滨

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用CVD法在陶瓷颗粒表面获得TiN涂层与应用) V  b% |1 s9 x1 H/ [) V* B! F) h
王恩泽郑燕青邢建东鲍崇高' o6 a5 q- ^% \: F+ \
(西安交通大学机械工程学院.西安710049)
! b( I* @; _/ L' A4 ?5 g8 W" Q摘要研制了适合陶瓷颗粒表而涂层处理的化学气相沉积装置,并探索了在氧化铝颗粒表而获得T iN涂层的工艺;所获得的T iN涂层能提高耐热钢在氧化铝颗粒间的铸渗深度,并使颗粒得到基体的牢固支撑氧化铝颗粒体积分数在23% ^ 57%可调
; p; O4 J2 |' J关键词化学气相沉积,T iN涂层,氧化铝颗粒,耐热钢基体,复合材料
" v5 R# Z; Z% y( t中图分类号TB331, TQ174.758
7 W+ n' m7 X" w+ _% ]8 `* G% ]; E2 Q' j, A/ U; O

用CVD法在陶瓷颗粒表面获得TiN涂层与应用.rar

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