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发表于 2007-6-27 11:45:32
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来自： 中国湖南衡阳
镀黑铬工艺组成及其影响因素的分析% ^& |% H0 f4 p* p# q: m
3.1 镀液组成及工艺条件; S% N) {; Q n6 |& c3 C8 {
通过大量的实验和小槽的多次试镀，我们决定在原槽液中大大增加硼酸含量，并加入阴离子添加剂HCr-I，镀液性能得到明显改善，阴极电流效率有所提高。
$ M# q: x( C O: N# i 镀黑铬电解液新配方与工艺条件为：
5 q8 q' c( j- g" ]" {! e! e 铬酐 280～350 g/L
8 x* _. ?. W( x9 c 硼酸 10～25 g/L3 Q; w' X5 s" a( v+ C. H, d/ a' ]
硝酸钠 7～11 g/L
5 @' _$ N4 s) ?4 k1 P5 c0 w% j/ T 添加剂 HCr-I适量7 b* `5 y3 T% J4 J$ n, A
镀液温度 15～35 ℃/ H& s; m1 c; ~
3.2 镀液成分与工艺条件的影响" b& ?$ r X! Y. K' _
3.2.1 铬酐：铬酐是镀液中的主要成分。当铬酐含量偏低时，镀液的深镀能力较差；含量偏高时，虽然深镀能力改善了，但镀层硬度降低，抗磨性能下降，一般控制在280～350 g/L之间。
9 ~( I6 |: m3 h0 B3.2.2 硼酸：硼酸的加入，能使镀层细致，提高镀液的覆盖能力。含量太低，镀层粗糙疏松；含量太高，会使镀层出现脆性、脱壳现象。9 D4 E! e+ ? \5 @- Q8 ?9 M, b
3.2.3 硝酸钠：镀液中的硝酸钠是发黑剂，它的含量偏低时，镀层不黑，电解液的电导率低，槽电压高；含量偏高时，镀液的分散能力和覆盖能力较差。通常控制在7～11 g/L之间。
/ N. q2 H+ }, R( H1 s3.2.4 添加剂：镀液中使用阴离子添加剂HCr-I可以提高镀液的分散能力和镀层的黑度，并具有使黑铬镀层表面活化的作用。! I' n6 g8 r( q; z, C
3.2.5 镀液温度：镀黑铬时，由于阴极电流效率很低，工作时的电流密度较高，槽液的温度极易上升。当温度超过35 ℃时，镀层就不黑了，因此在生产中要严格控制槽液的温度。
8 W& c) E: Z) B6 U6 N7 F3.3 杂质离子的影响及除去方法# G( a3 E, S* L3 }2 P5 m, Q
3.3.1 氯离子：镀液中氯离子含量过高时，会使镀层发花，覆盖能力降低，甚至会使镀层粗糙和发灰。因此生产中必须防止将氯离子带入镀黑铬槽液中。自来水中氯离子含量较高，因此不可用自来水配制镀黑铬槽液，应用蒸馏水或去离子水配制，而且镀黑铬前的清洗也必须用纯水。
) u: o$ l8 o" r4 s" [ 氯离子可用适量的硝酸银来除去。: U: J3 A. }) W5 l# c6 C9 z
3.3.2 硫酸根： 硫酸根是特别有害的杂质。当镀液中含有硫酸根时，镀层呈浅黄色。
% \! m' `& \ f* c7 d; \, D 硫酸根可用适量的碳酸钡来除去。* e; P& O: \, x3 I! Y2 [
3.3.3 铜离子：当镀液中含有铜离子达1g/L以上时，镀层会出现褐色条纹，因此阳极的铜挂钩不可侵入镀液内。若有落入镀槽内的铜零件，应及时取出。 |
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发表于 2007-6-29 15:20:25