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圆柱形平面式磁控溅射靶的特点与设计原理
" b1 |& S, w/ S6 _& @3 ]+ d孙东明（昆明理工大学机电工程学院，云南昆明 650093" q( Z$ K8 c8 h. o' w' O: w
摘要：介绍了一种根据矩形平面靶的结构原理设计圆柱形、平面式磁控溅射靶的方法. 并对如何/ V# o9 `% E& n, N. G
发挥圆柱形、平面式磁控溅射靶的优点进行了分析., a% N; B! L" C# L' ]7 N, ^/ d
关键词：磁控溅射；靶；真空镀膜3 s# b5 B1 R5 w* R2 p1 W
中图分类号：TB79 文章编号:1007-855X(2000)02-054-04 |
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发表于 2008-6-6 02:32:26
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