德山公司西门子法和VLD法并举

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德山公司西门子法和VLD法并举
/ }& B# o& q% |) a       日本德山公司2006年末宣布投资450亿日元新建一座3000t规模的多晶硅生产厂。．预计2009年春季投产。其中大约2500t用于半导体，500t用于太阳能电池。
' a  g( K4 F1 H0 w2 P: E" j& [' {     新上马的多晶硅生产线仍采用西门子法，而未采用德山公司开发的新技术—-VID法。针对这一问题，德山公司硅事业部部长解释说，由于VLD法是一种全新的技术，在试生产过程中肯定会发现一些问题，因此需要一定的时间进行技术攻关。德山公司研究VLD法是从7年前开始的，取得了40多项专利。特点是可低成本生产太阳能电池用多晶硅。目前仍在为实现产业化积极努力。另一方面，德山公司认为半导体用多晶硅的供给不足将日益严重。因此决定采用西门子法增加半导体用多晶硅。
       在多晶硅供需方面，德山公司认为2007年供应最为紧张。2o08年虽然美国Hemlock等公司增加供应，但由于需求增长较快，供求关系仍较紧张。到2009年，由于德山、Hemlock、瓦克等公司均增加供应，可稍许缓解供应紧张的局面。在半导体用方面，由于对300mm硅片需求强劲，因此对多晶硅需求增加。预计201 1年半导体用多晶硅又将会出现供应短缺。在太阳能电池用方面，由于目前太阳能电池发电量不到总消费量的1％，因此发展余地非常大，
( |  |7 i9 o; v+ b+ J: ?3 c对多晶硅需求将增加数倍。因此用成本相对较高的西门子法生产太阳能电池用多晶硅不太合算，这也是德山公司开发低成本VLD法的原因。
                                                                                                                                 (杨晓婵摘译)

[ 本帖最后由 rgsmdqy 于 2008-10-31 16:14 编辑 ]