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发表于 2009-1-4 20:50:34
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来自： 中国江苏苏州
物理气相沉积(PVD)，化学气相沉积(CVD)是表面处理的方法，也属本区块！所以请2楼仁兄别误会楼主在问热处理方法。
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cvd 和pvd的区别？: m, {, L9 x y! h7 ]
-->在真空腔中将靶材由电阻热/溅射/电子枪/激光等方式给与气相蒸发，然后再沈积于被镀件上称为PVD，若真空腔中通入适当工作气体(如乙炔)，使其与气相的靶材(如钛)先化学反应(如碳化钛)后再沈积于被镀件上称为CVD
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' L4 }. |9 ^4 D4 M/ J- [分别用于什么场合？
9 c. Y r$ B" I0 X. b. ]/ v# x-->PVD > 金属类单一元素镀膜
& ?# q0 C, D: [/ h CVD > 金属或非金属化合物多元素镀膜4 M) y0 N( R. J x
- x8 n r: @' P& K: nPS：我目前正负责PVC及CVD设备，欢迎同业来讨论。s_y_y1@hotmail.com+ a: i$ z; y/ g* D+ z3 O
/ ^) [1 S7 u X* U, @. v6 J[ 本帖最后由 s_y_y1 于 2009-1-4 20:54 编辑 ] |
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