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电镀定义:电镀为电解镀金属法的简称。电镀是将镀件(制品),浸于含有欲镀上金属离子的药水中并接通阴极,药水的另一端放置适当阳极(可溶性或不可溶性),通以直流电后,镀件的表面即析出一层金属薄膜的方法。/ ]7 \( r5 Z( ?- F
电镀的基本五要素:
9 q$ k0 E ?; I B1.阴极:被镀物,指各种接插件端子。% F& s: N* ^9 Z- o* m1 W
2.阳极:若是可溶性阳极,则为欲镀金属。若是不可溶性阳极,大部分为贵金属(白金,氧化铱)./ z1 ?1 y& k+ L/ L
3.电镀药水:含有欲镀金属离子的电镀药水。- }5 \. K. D+ Y; j4 B- E' A0 M9 h
4.电镀槽:可承受,储存电镀药水的槽体,一般考虑强度,耐蚀,耐温等因素。
0 G! y: y6 V9 w5.整流器:提供直流电源的设备。
, r2 b( r+ c# v# O 电镀目的:电镀除了要求美观外,依各种电镀需求而有不同的目的。$ w9 ]) e* ?' d4 m
1.镀铜:打底用,增进电镀层附着能力,及抗蚀能力。1 C! K4 y' K) @' z
2.镀镍:打底用,增进抗蚀能力。6 a! I) N: J/ c& V
3.镀金:改善导电接触阻抗,增进信号传输。
# g" @3 M4 b+ S. X4.镀钯镍:改善导电接触阻抗,增进信号传输,耐磨性比金佳。* t1 A4 W6 B3 \3 j$ z
5.镀锡铅:增进焊接能力,快被其他替物取代。1 Y2 l2 ~% J# ]" Z7 a/ J
电镀流程:一般铜合金底材如下(未含水洗工程)
1 ?0 M* r2 D+ |, E3 h/ w' F% L1.脱脂:通常同时使用碱性预备脱脂及电解脱脂。0 f) u* a1 a5 S* Y- a5 [
2.活化:使用稀硫酸或相关的混合酸。+ L$ y. M2 r& c5 J
3.镀镍:使用硫酸镍系及氨基磺酸镍系。- a# ^) j! J1 }* \/ {2 V% t
4.镀钯镍:目前皆为氨系。9 G' V1 I8 W& H
5.镀金:有金钴,金镍,金铁,一般使用金钴系最多。8 q6 F! I' @- ]4 g3 v# S7 J0 }# d
6.镀锡铅:烷基磺酸系。2 @$ l+ m" E6 ^4 l. H D3 ?/ C/ @7 W5 q
7.干燥:使用热风循环烘干。$ N4 N" i/ Q! E9 P, p7 ^) O2 ~4 m
8.封孔处理:有使用水溶型及溶剂型两种。/ v' n0 ^8 ^$ G- ~" G9 E
电镀药水组成;
# H/ [4 {6 p0 [3 i1 y$ ~( r1.纯水:总不纯物至少要低于5ppm。
" ]' r! ]! m4 v6 z+ ~2.金属盐:提供欲镀金属离子。% h% f* ?+ H2 L! J1 ]
3.阳极解离助剂:增进及平衡阳极解离速率。
4 j* f5 c! I; A/ c, _8 z; J4.导电盐:增进药水导电度。/ k( U* V' l- }" M! k
5.添加剂:缓冲剂,光泽剂,平滑剂,柔软剂,湿润剂,抑制剂。
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电镀条件:
2 v6 d: \4 Z3 A; V: o; L9 X& a3 b1.电流密度:单位电镀面积下所承受的电流,通常电流密度越高膜厚越厚,但是过高时镀层会烧焦粗燥。
5 V7 e2 |) a3 }9 W" F4 i- u2.电镀位置:镀件在药水中位置,与阳极相对位置,会影响膜厚分布。
% O( I3 O$ }/ m y3.搅拌状况:搅拌效果越好,电镀效率越高,有空气,水流,阴极摆动等搅拌方式。7 W: j8 U8 q& l0 Z
4.电流波形:通常滤波度越好,镀层组织越均一。8 b4 C) x* M9 _% [( A
5.镀液温度:镀金约50~60,镀镍约50~60,镀锡铅约18~22,镀钯镍约45~55。
+ B* Z& S" T( K4 ^7 t6镀液PH值:镀金约4.0~4.8 ,镀镍约3.8~4.4,镀钯镍约8.0~8.5,6 K+ x" r4 E$ i8 d+ x: `) g! c: ]
7.镀液比重:基本上比重低,药水导电差,电镀效率差。$ l1 h( C% @( g$ T4 R6 E5 L7 D$ U
7 G- {0 X& _! [# G$ H7 N3 P- G7 u电镀厚度:在现在电子连接器端子的电镀厚度的表示法有a .µ``.微英寸,b. µm,微米, 1 µm约等于40µ``.- [- R5 W9 o/ b) `" t
1.Tin—Lead Alloy Plating :锡铅合金电镀
0 ^+ ~# {) U; n- b9 `( M作为焊接用途,一般膜厚在100~150µ``最多.* v) x% T j! w" ^; z" F; }
2.Nickel Plating 镍电镀
' M( L8 v2 M6 m# p; C现在电子连接器皆以打底(underplating),故在50µ``以上为一般规格,较低的规格为30µ``,(可能考虑到折弯或者成本)
# P$ g! o& G( n3.Gold Plating 金电镀1 a3 H% ]: H9 \" @
为昂贵的电镀加工,故一般电子业在选用规格时,考虑到其实用环境、使用对象,制造成本,若需通过一般强腐蚀实验必须在50µ``以上 .& F4 p% g% G# \0 j: g9 W( D
) V: F7 g2 z w9 I! t) n镀层检验:
/ _: @0 R8 Q1 V7 E' L& V1.外观检验:目视法,放大镜(4~10倍)5 a) G6 B! u, O1 q
2.膜厚测试:X-RAY荧光膜厚仪.3 P+ I L# T% D' v
3.密着实验:折弯法,胶带法或两者并用.6 ^+ ] q* J+ M' }, w1 j: K9 d
4.焊锡实验:沾锡法,一般95%以上沾锡面积均匀平滑即可.' e( k4 t& f% U4 G7 f! l9 R5 I! P- U
5.水蒸气老化实验:测试是否变色或腐蚀斑点,及后续的可焊性.% j1 {( }1 {& J8 ]0 f+ t
6.抗变色实验:使用烤箱烘烤法,是否变色或者脱皮.% C- l( Y6 @0 r$ ^, [, z* r
7.耐腐蚀实验:盐水喷雾实验,硝酸实验,二氧化硫实验,硫化氢实验等., D: O; \7 T8 D: {0 J
摘自:http://jxwy2008.5d6d.com/thread-1494-1-1.html. b+ a) l6 P$ j+ f: {; T, e
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[ 本帖最后由 xiaobai999 于 2009-5-14 13:55 编辑 ] |
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