TC4钛合金的固体渗硼.pdf

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衣晓红，樊占国，张景垒，李凤华
(东北大学。辽宁沈阳ll0004)
, o$ Y% L& c2 h% ^/ B" H  l摘要：采用固体粉末渗硼法对TC4钛合金基体表面进行渗硼试验。通过扫描电镜(SEM)、能谱(EDS)与X射线衍射
; y( k& |( j! q# J. R1 V# r5 l(xRD)研究TC4钛合金渗硼后的物相组成和组织形貌，讨论渗硼过程中元素的扩散行为。结果表明：在lOOO，1050和
lloo℃分别保温5，20 h后，渗层由外表层的TiB2和内表层的TiB晶须组成，渗层厚度范围为0．8～15岬。XRD分析
表明：TC4钛合金渗硼后形成TiB2与TiB双相硼钛化合物层，随着温度的升高，TiB2与TiB的峰位增多；EDS分析得
4 ~1 f, F/ J7 |1 Q' b' G) f出表层B原子被TC4钛合金吸附后与基体的Ti化合导致过渡区域内的Ti含量减少，同时Al和v元素开始向基体扩散
2 e! I8 J) ~+ o0 _. o. V5 g& c并在近界面处富集。渗层的显微硬度呈梯度分布，TiB2到TiB晶须维氏硬度值的变化范围为22 000～11 000 MPa，过渡
区的硬度值要高于基体的硬度值。
关键词：固体渗硼；TC4钛合金；显微硬度；组成；硼钛化合物：