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[新技术] 用CVD法在陶瓷颗粒表面获得TiN涂层与应用

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发表于 2016-6-1 14:07:39 | 显示全部楼层 |阅读模式 来自: 中国黑龙江哈尔滨

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用CVD法在陶瓷颗粒表面获得TiN涂层与应用
7 t4 |: g) r) d2 n/ J- a王恩泽郑燕青邢建东鲍崇高% r# k7 a& N( i: z8 w
(西安交通大学机械工程学院.西安710049). p+ c, ~" b: q  j
摘要研制了适合陶瓷颗粒表而涂层处理的化学气相沉积装置,并探索了在氧化铝颗粒表而获得T iN涂层的工艺;所获得的T iN涂层能提高耐热钢在氧化铝颗粒间的铸渗深度,并使颗粒得到基体的牢固支撑氧化铝颗粒体积分数在23% ^ 57%可调
1 o. O- T; x& k5 k关键词化学气相沉积,T iN涂层,氧化铝颗粒,耐热钢基体,复合材料
. E+ v8 r" D) {中图分类号TB331, TQ174.758/ {6 ~  X  e+ s5 R
+ C9 k1 o$ g( N

用CVD法在陶瓷颗粒表面获得TiN涂层与应用.rar

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