Cu—Ni—V—C合金对激光熔敷层性能的影响

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第12卷第5期 中国有色金属学报
# a; m+ I: T4 b& `[文章编号]1004-0609(2002)05—0945-05
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栾景飞。严 密
(浙江大学硅材料国家重点实验室，杭州310027)
[摘要]在不预热情况下，通过调整熔敷金属cu和Ni的含量，改变铸铁激光熔敷层内奥氏体相与渗碳体相体积分数，分析了奥氏体相体积分数对熔敷层抗裂性的影响。在最佳激光熔敷工艺参数基础上，研究了Cu和Ni对熔敷层奥氏体体积分数、表面裂纹率及表面耐磨性的影响。获得的未裂l缶界熔敷层面积为55．1 cm ，其对应熔敷材料为Cu．Ni．C．Si．Fe。以此熔敷材料为基础，改变V含量，在熔敷层得到原位自生V C。研究了V C对熔敷层耐磨性的影响，分析了V C对熔敷层硬度及磨损质量损失的影响规律，最终获得了可显著提高熔敷层抗裂性及耐磨性的Cu-Ni-V．C．Si．Fe熔敷材料。
# q9 [  o7 z5 S) e/ D* x, p[关键词]激光熔敷层；Ni；Cu；原位自生V C；抗裂性；耐磨性
[中图分类号]TG40 [文献标识码]A