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[分享] Cu—Ni—V—C合金对激光熔敷层性能的影响

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发表于 2016-6-30 14:49:54 | 显示全部楼层 |阅读模式

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第12卷第5期 中国有色金属学报+ K9 K& Y. Z. T  ~% K+ V
[文章编号]1004-0609(2002)05—0945-05
9 p  A4 y* ^; WCu.Ni.V.C合金对激光熔敷层性能的影响
, }$ w  R% z+ M! E8 B0 I- D栾景飞。严 密
$ ]9 K  ]9 V; }2 e% Y(浙江大学硅材料国家重点实验室,杭州310027)
4 F0 s4 e6 l! f[摘要]在不预热情况下,通过调整熔敷金属cu和Ni的含量,改变铸铁激光熔敷层内奥氏体相与渗碳体相体积分数,分析了奥氏体相体积分数对熔敷层抗裂性的影响。在最佳激光熔敷工艺参数基础上,研究了Cu和Ni对熔敷层奥氏体体积分数、表面裂纹率及表面耐磨性的影响。获得的未裂l缶界熔敷层面积为55.1 cm ,其对应熔敷材料为Cu.Ni.C.Si.Fe。以此熔敷材料为基础,改变V含量,在熔敷层得到原位自生V C。研究了V C对熔敷层耐磨性的影响,分析了V C对熔敷层硬度及磨损质量损失的影响规律,最终获得了可显著提高熔敷层抗裂性及耐磨性的Cu-Ni-V.C.Si.Fe熔敷材料。
& V9 ~" a* @/ t) c: m[关键词]激光熔敷层;Ni;Cu;原位自生V C;抗裂性;耐磨性) C/ L+ F6 }* d. ~3 X4 j9 i6 C
[中图分类号]TG40 [文献标识码]A: W5 m' E1 Y; U: {. }. n

3 I7 w$ B2 |& D! A0 S7 K

Cu—Ni—V—C合金对激光熔敷层性能的影响.pdf

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