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第12卷第5期 中国有色金属学报
9 ~! M$ R: d7 R% P6 O[文章编号]1004-0609(2002)05—0945-05. W0 a) k3 v. P' y4 ?0 Y
Cu．Ni．V．C合金对激光熔敷层性能的影响$ J* u' k" I: e' S, N2 p
栾景飞。严 密
9 `+ P+ j1 O0 ?# b" n/ e(浙江大学硅材料国家重点实验室，杭州310027)
/ S& }0 ]+ G5 s0 ^8 j[摘要]在不预热情况下，通过调整熔敷金属cu和Ni的含量，改变铸铁激光熔敷层内奥氏体相与渗碳体相体积分数，分析了奥氏体相体积分数对熔敷层抗裂性的影响。在最佳激光熔敷工艺参数基础上，研究了Cu和Ni对熔敷层奥氏体体积分数、表面裂纹率及表面耐磨性的影响。获得的未裂l缶界熔敷层面积为55．1 cm ，其对应熔敷材料为Cu．Ni．C．Si．Fe。以此熔敷材料为基础，改变V含量，在熔敷层得到原位自生V C。研究了V C对熔敷层耐磨性的影响，分析了V C对熔敷层硬度及磨损质量损失的影响规律，最终获得了可显著提高熔敷层抗裂性及耐磨性的Cu-Ni-V．C．Si．Fe熔敷材料。0 c5 v7 \& z- Y
[关键词]激光熔敷层；Ni；Cu；原位自生V C；抗裂性；耐磨性0 Z6 X5 o& Q8 A+ N. a
[中图分类号]TG40 [文献标识码]A6 G( \2 G0 m7 l: K+ A' {, @+ _* E1 b; ^ U
, ^9 X5 D* P# \' N9 h |
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发表于 2016-6-30 14:49:54
