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电镀定义:电镀为电解镀金属法的简称。电镀是将镀件(制品),浸于含有欲镀上金属离子的药水中并接通阴极,药水的另一端放置适当阳极(可溶性或不可溶性),通以直流电后,镀件的表面即析出一层金属薄膜的方法。
1 e! M. G2 O$ V4 @- f( G I电镀的基本五要素:
, {7 c. _0 ?& p% V; T; Q1.阴极:被镀物,指各种接插件端子。( c$ x6 }6 D% C9 [8 p/ O" _
2.阳极:若是可溶性阳极,则为欲镀金属。若是不可溶性阳极,大部分为贵金属(白金,氧化铱).$ t A# Y- l. c J
3.电镀药水:含有欲镀金属离子的电镀药水。! C9 y7 \+ P( k
4.电镀槽:可承受,储存电镀药水的槽体,一般考虑强度,耐蚀,耐温等因素。
/ q7 P) ^5 Z3 W: N; B5.整流器:提供直流电源的设备。
& G$ {! f) l3 G" `" {9 a Y+ h0 s6 L 电镀目的:电镀除了要求美观外,依各种电镀需求而有不同的目的。
$ X7 Y# B9 N1 d Q4 L, `1.镀铜:打底用,增进电镀层附着能力,及抗蚀能力。. ?. E3 \ S* F! E9 c( ]
2.镀镍:打底用,增进抗蚀能力。
`% _* a4 h8 z- E& M9 @: r3.镀金:改善导电接触阻抗,增进信号传输。
, U& Z$ D; X! G: o7 c& k6 d4.镀钯镍:改善导电接触阻抗,增进信号传输,耐磨性比金佳。
2 G, D' j8 t6 O8 k& I8 V6 U6 P5.镀锡铅:增进焊接能力,快被其他替物取代。
0 u% [- N0 u- Z# e; t 电镀流程:一般铜合金底材如下(未含水洗工程)
1 g8 [( L8 s: @+ K( S: J W+ V1.脱脂:通常同时使用碱性预备脱脂及电解脱脂。# F4 v/ x. V" U2 e- V! J
2.活化:使用稀硫酸或相关的混合酸。% n2 z$ {& l {. K3 x( w) ]" e4 m
3.镀镍:使用硫酸镍系及氨基磺酸镍系。* m6 T1 h) C/ Q4 p
4.镀钯镍:目前皆为氨系。, u; H0 ~, ~, k- N7 j' q Z4 u& O
5.镀金:有金钴,金镍,金铁,一般使用金钴系最多。
* l& [; |4 [9 z. `# x* J! I6.镀锡铅:烷基磺酸系。
4 O8 q) ~8 G" v8 o7.干燥:使用热风循环烘干。7 w0 C) i1 w+ |# d, o: J
8.封孔处理:有使用水溶型及溶剂型两种。
/ S G4 }- a. N$ l! b7 {电镀药水组成;
* E/ F- t6 J7 A6 G ?; C! B5 B) U1.纯水:总不纯物至少要低于5ppm。' i* c8 I4 J% _) K5 Y
2.金属盐:提供欲镀金属离子。
) D% A% ]2 d j% |7 R1 Y: A4 s4 |3.阳极解离助剂:增进及平衡阳极解离速率。8 p3 _+ F9 f) G4 `( k, k/ m2 F
4.导电盐:增进药水导电度。5 |% z4 i1 n/ |+ ^7 z+ }
5.添加剂:缓冲剂,光泽剂,平滑剂,柔软剂,湿润剂,抑制剂。) ~$ p. Q C7 F$ b$ V# Z
- K) W0 n7 y4 _+ V电镀条件:( U) R2 ~ f( M6 o$ ~) i) }1 A2 X
1.电流密度:单位电镀面积下所承受的电流,通常电流密度越高膜厚越厚,但是过高时镀层会烧焦粗燥。6 u0 d: d& M( \4 v
2.电镀位置:镀件在药水中位置,与阳极相对位置,会影响膜厚分布。
5 O$ f- Z8 u% @; \3.搅拌状况:搅拌效果越好,电镀效率越高,有空气,水流,阴极摆动等搅拌方式。) P) \" k9 p# x* w0 N
4.电流波形:通常滤波度越好,镀层组织越均一。
2 \/ K% g% m0 O0 O5.镀液温度:镀金约50~60,镀镍约50~60,镀锡铅约18~22,镀钯镍约45~55。
7 v1 {: N4 `7 R2 W/ n) l6镀液PH值:镀金约4.0~4.8 ,镀镍约3.8~4.4,镀钯镍约8.0~8.5,! v" u+ V1 Y: U
7.镀液比重:基本上比重低,药水导电差,电镀效率差。9 _, P7 I$ ?3 E$ y8 ~
/ G5 I4 f3 J0 J: L: |电镀厚度:在现在电子连接器端子的电镀厚度的表示法有a .µ``.微英寸,b. µm,微米, 1 µm约等于40µ``./ }6 k* i B2 s1 n* X! s, X$ w( E5 h
1.Tin—Lead Alloy Plating :锡铅合金电镀" F9 f" C. ^) A$ W0 O& C5 J
作为焊接用途,一般膜厚在100~150µ``最多.& l% \( d6 J. y6 F2 |
2.Nickel Plating 镍电镀
! x/ T2 f2 {; |6 p4 F现在电子连接器皆以打底(underplating),故在50µ``以上为一般规格,较低的规格为30µ``,(可能考虑到折弯或者成本)
7 g" u% \1 ^- g6 }; f3.Gold Plating 金电镀
8 N- |% ?2 F: z; ^$ ^* x为昂贵的电镀加工,故一般电子业在选用规格时,考虑到其实用环境、使用对象,制造成本,若需通过一般强腐蚀实验必须在50µ``以上 .
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镀层检验:+ E, V3 G, @8 x1 r! V$ e
1.外观检验:目视法,放大镜(4~10倍)0 d0 ]5 {* \: F$ T
2.膜厚测试:X-RAY荧光膜厚仪.; V8 v+ j+ T4 e6 w
3.密着实验:折弯法,胶带法或两者并用.6 p* b; D5 |6 a$ A$ m# p4 c
4.焊锡实验:沾锡法,一般95%以上沾锡面积均匀平滑即可.: t& o5 J9 y3 R
5.水蒸气老化实验:测试是否变色或腐蚀斑点,及后续的可焊性.
1 b4 p% U2 ]* J' A6.抗变色实验:使用烤箱烘烤法,是否变色或者脱皮.+ \+ t' G; D+ `2 q- Q+ c2 \' D
7.耐腐蚀实验:盐水喷雾实验,硝酸实验,二氧化硫实验,硫化氢实验等.1 k' H; {7 ^& R: f
摘自:http://jxwy2008.5d6d.com/thread-1494-1-1.html
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[ 本帖最后由 xiaobai999 于 2009-5-14 13:55 编辑 ] |
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